公开(公告)号：CN110444460A

公开(公告)日：2019-11-12

申请号：CN201910738671.0

申请日：2015-08-06

Applicant: 东京毅力科创株式会社

Inventor： 泽地淳 ,  佐佐木则和 ,  山岛淳 ,  佐藤好保 ,  野上健一

IPC: H01J37/32 ,  H01L21/02 ,  H01L21/3065 ,  H01L21/67 ,  C23C16/455 ,  C23C16/509

Abstract: 本发明提供一种等离子体处理装置的应用方法。一个实施方式的等离子体处理装置中的气体供给系统包括第一～第三机构。第一机构的多个整合部构成为对来自一个以上的气源的气体进行选择并输出所选择的气体。第二机构构成为对来自多个整合部的多个气体进行分配，对所分配的气体的流量进行调节并将其输出。第三机构构成为将气体供给系统内的气体排出至排气装置。所述应用方法包括：使多个流量控制单元停止的步骤；关闭机构中的多个第一阀、第二阀和第三阀的步骤；打开多个第四阀的步骤；和利用压力计对排气管的压力进行计测的步骤。由此，能够检测气体供给系统所具有的多个第一阀的泄漏。

公开(公告)号：CN106575615B

公开(公告)日：2019-09-03

申请号：CN201580040141.9

申请日：2015-08-06

Applicant: 东京毅力科创株式会社

Inventor： 泽地淳 ,  佐佐木则和 ,  山岛淳 ,  佐藤好保 ,  野上健一

IPC: H01L21/3065 ,  C23C16/455 ,  C23C16/509 ,  H01L21/31

Abstract: 一个实施方式的气体供给系统包括第一～第三机构。第一机构的多个整合部构成为对来自一个以上的气源的气体进行选择并输出所选择的气体。第二机构构成为对来自多个整合部的多个气体进行分配，对所分配的气体的流量进行调节并将其输出。第三机构构成为将气体供给系统内的气体排出至排气装置。

公开(公告)号：CN110444460B

公开(公告)日：2021-08-24

申请号：CN201910738671.0

申请日：2015-08-06

Applicant: 东京毅力科创株式会社

Inventor： 泽地淳 ,  佐佐木则和 ,  山岛淳 ,  佐藤好保 ,  野上健一

IPC: H01J37/32 ,  H01L21/02 ,  H01L21/3065 ,  H01L21/67 ,  C23C16/455 ,  C23C16/509

Abstract: 本发明提供一种等离子体处理装置的应用方法。一个实施方式的等离子体处理装置中的气体供给系统包括第一～第三机构。第一机构的多个整合部构成为对来自一个以上的气源的气体进行选择并输出所选择的气体。第二机构构成为对来自多个整合部的多个气体进行分配，对所分配的气体的流量进行调节并将其输出。第三机构构成为将气体供给系统内的气体排出至排气装置。所述应用方法包括：使多个流量控制单元停止的步骤；关闭机构中的多个第一阀、第二阀和第三阀的步骤；打开多个第四阀的步骤；和利用压力计对排气管的压力进行计测的步骤。由此，能够检测气体供给系统所具有的多个第一阀的泄漏。

公开(公告)号：CN106575615A

公开(公告)日：2017-04-19

申请号：CN201580040141.9

申请日：2015-08-06

Applicant: 东京毅力科创株式会社

Inventor： 泽地淳 ,  佐佐木则和 ,  山岛淳 ,  佐藤好保 ,  野上健一

IPC: H01L21/3065 ,  C23C16/455 ,  C23C16/509 ,  H01L21/31

Abstract: 一个实施方式的气体供给系统包括第一～第三机构。第一机构的多个整合部构成为对来自一个以上的气源的气体进行选择并输出所选择的气体。第二机构构成为对来自多个整合部的多个气体进行分配，对所分配的气体的流量进行调节并将其输出。第三机构构成为将气体供给系统内的气体排出至排气装置。