公开(公告)号：CN115116814A

公开(公告)日：2022-09-27

申请号：CN202210222843.0

申请日：2022-03-07

Applicant: 东京毅力科创株式会社

Inventor： 郑和俊 ,  大秦充敬 ,  保坂勇贵 ,  郑完崧

IPC: H01J37/32

Abstract: 本发明提供一种等离子体处理装置和等离子体处理方法。本发明的等离子体处理装置包括：等离子体处理腔室；配置在等离子体处理腔室内的基片支承部；环状挡板，其以包围基片支承部的方式配置，且具有多个开口；第一环状板，其配置在环状挡板的下方；第二环状板，其配置在第一环状板的下方，具有环状重叠部分，环状重叠部分与第一环状板的一部分在纵向上重叠；压力检测器，其构成为能够检测等离子体处理腔室内的压力；和至少1个致动器，其构成为能够基于检测出的压力来使第一环状板和第二环状板中的至少一者在纵向上移动，以变更第一环状板与第二环状板之间的距离。根据本发明，能够在短时间内控制处理腔室的内部压力。

公开(公告)号：CN113764249A

公开(公告)日：2021-12-07

申请号：CN202110585481.7

申请日：2021-05-27

Applicant: 东京毅力科创株式会社

Inventor： 郑和俊 ,  铃木雅弘 ,  保坂勇贵 ,  大秦充敬

IPC: H01J37/32 ,  H01L21/683

Abstract: 本发明提供一种等离子体处理装置，能够在控制基板边缘处的倾斜的同时抑制基板的中央和中间区域的工艺变化。等离子体处理装置具有：等离子体处理容器；基板支承部，其配置于等离子体处理容器内，包括静电吸盘；第一环，其以包围静电吸盘上的基板的方式配置于静电吸盘上，包括内侧环状部分、中间环状部分以及外侧环状部分，内侧环状部分的上表面比中间环状部分的上表面高，外侧环状部分的上表面比内侧环状部分的上表面高；第二环，其配置于第一环的中间环状部分的上表面；以及致动器，其构成为使第二环沿纵向移动以将第二环的上表面维持为第一高度，第一高度比第一环的内侧环状部分的上表面的高度大且比第一环的外侧环状部分的上表面的高度小。

公开(公告)号：CN112825296A

公开(公告)日：2021-05-21

申请号：CN202011267533.8

申请日：2020-11-13

Applicant: 东京毅力科创株式会社

Inventor： 郑和俊 ,  北邨友志

IPC: H01J37/32

Abstract: 本公开提供一种气体供给系统及其控制方法、等离子体处理装置，能够响应性良好地分配气体。该气体供给系统被连接在具有第一气体入口和第二气体入口的腔室与气体源之间，并且具有：流量调整单元，其具备多个流量调整线路，各流量调整线路具有成对的第一线路和第二线路，第一线路将气体源与第一气体入口连接，并且所述第一线路具有第一阀和第一节流孔，第二线路将气体源和第二气体入口连接，并且所述第二线路具有第二阀和第二节流孔，各流量调整线路中第一节流孔和第二节流孔具有相同的尺寸；以及控制部，其构成为控制各流量调整线路中的第一阀和第二阀的开闭。