公开(公告)号：CN117790275A

公开(公告)日：2024-03-29

申请号：CN202311179269.6

申请日：2023-09-13

Applicant: 东京毅力科创株式会社

Inventor： 砂金优 ,  阿部凉也

IPC: H01J37/32 ,  H01J37/16

Abstract: 本发明提供能够在处理装置中提供对于腔室的适当的衬里构造的等离子体处理装置和基片处理装置。等离子体处理装置包括：由第一导电性材料形成的、与接地电位连接的导电性腔室；能够在导电性腔室内生成等离子体的等离子体生成部；由与第一导电性材料不同的第二导电性材料形成的、在导电性腔室内沿着周向排列配置的多个导电性衬里，各导电性衬里具有第一面和与第一面相反的一侧的第二面，第一面与导电性腔室的侧壁接触，第二面暴露于等离子体，在多个导电性衬里中的两个相邻的导电性衬里之间形成有间隙；和分别与多个导电性衬里对应的多个固定器具，各固定器具能够将对应的导电性衬里固定在导电性腔室的侧壁上。

公开(公告)号：CN113990732B

公开(公告)日：2025-02-25

申请号：CN202111261669.2

申请日：2018-06-21

Applicant: 东京毅力科创株式会社

Inventor： 砂金优

IPC: H01J37/32

Abstract: 本发明提供一种能够获得均匀的等离子体空间的等离子体处理装置。等离子体处理装置包括：处理容器、载置台、遮护部件、开口用的可升降的闸门、第1驱动部和第2驱动部。处理容器具有侧壁，在该侧壁形成有被处理体的搬入搬出用的输送通路。载置台设置在处理容器内。遮护部件以包围盖载置台的方式沿上述侧壁的内表面设置。在该遮护部件形成有面对输送通路的开口。第1驱动部使闸门升降。第2驱动部使闸门相对于遮护部件在前后方向移动。

公开(公告)号：CN112490102A

公开(公告)日：2021-03-12

申请号：CN202010917456.X

申请日：2020-09-03

Applicant: 东京毅力科创株式会社

Inventor： 砂金优 ,  北泽贵

IPC: H01J37/32

Abstract: 本发明提供一种热介质循环系统和基板处理装置。使透过树脂制的管道的透过气体的排气效率提高。热介质循环系统具有：管道，其为树脂制，构成供热介质循环于温度控制对象物的循环流路的至少一部分；罩，其包围管道的外周面；以及排气管，其与管道和罩之间的空间相连接，将透过管道并向该空间释放的热介质排出，罩具有供气口，该供气口与热介质从排气管的排出同时地向管道和罩之间的空间供给空气。

公开(公告)号：CN119731610A

公开(公告)日：2025-03-28

申请号：CN202380060828.3

申请日：2023-08-25

Applicant: 东京毅力科创株式会社

Inventor： 砂金优

IPC: G05D23/00

Abstract: 提供一种提高温度控制的制度和响应性的温度控制装置、基板处理装置以及温度控制方法。一种温度控制装置，通过使流体在调温部中循环来控制所述调温部的温度，所述温度控制装置具备：第一温度调整部，其将所述流体调整为第一温度；第二温度调整部，其将被调整为所述第一温度的所述流体调整为第二温度；第一调温流路，其设置于所述第一温度调整部与所述第二温度调整部之间；第二调温流路，其设置于所述第二温度调整部与所述调温部之间；以及返回流路，其设置于所述调温部与所述第一温度调整部之间。

公开(公告)号：CN113990732A

公开(公告)日：2022-01-28

申请号：CN202111261669.2

申请日：2018-06-21

Applicant: 东京毅力科创株式会社

Inventor： 砂金优

IPC: H01J37/32

Abstract: 本发明提供一种能够获得均匀的等离子体空间的等离子体处理装置。等离子体处理装置包括：处理容器、载置台、遮护部件、开口用的可升降的闸门、第1驱动部和第2驱动部。处理容器具有侧壁，在该侧壁形成有被处理体的搬入搬出用的输送通路。载置台设置在处理容器内。遮护部件以包围盖载置台的方式沿上述侧壁的内表面设置。在该遮护部件形成有面对输送通路的开口。第1驱动部使闸门升降。第2驱动部使闸门相对于遮护部件在前后方向移动。

公开(公告)号：CN109119320A

公开(公告)日：2019-01-01

申请号：CN201810642212.8

申请日：2018-06-21

Applicant: 东京毅力科创株式会社

Inventor： 砂金优

IPC: H01J37/32

Abstract: 本发明提供一种能够获得均匀的等离子体空间的等离子体处理装置。等离子体处理装置包括：处理容器、载置台、遮护部件、开口用的可升降的闸门、第1驱动部和第2驱动部。处理容器具有侧壁，在该侧壁形成有被处理体的搬入搬出用的输送通路。载置台设置在处理容器内。遮护部件以包围盖载置台的方式沿上述侧壁的内表面设置。在该遮护部件形成有面对输送通路的开口。第1驱动部使闸门升降。第2驱动部使闸门相对于遮护部件在前后方向移动。