公开(公告)号：CN112309904A

公开(公告)日：2021-02-02

申请号：CN202010708551.9

申请日：2020-07-22

Applicant: 东京毅力科创株式会社

Inventor： 海濑拓也

IPC: H01L21/67 ,  H01L21/677

Abstract: 本发明提供基板处理装置以及基板输送方法。防止基板处理装置大型化或使其小型化，基板处理装置具备：输送室列，多个输送室呈直线状排列，各自在内部设有利用输送臂保持基板进行输送的基板输送机构；处理室列，多个处理室沿着输送室列配设于输送室列的侧方，各自在内部设有基板载置区域；驱动机构，驱动输送臂的回旋及进退；控制部，处理室借助闸阀与相邻的两个输送室连接，基板载置区域的中心位于比连结输送室的输送臂的回旋轴线和对应于该输送室的闸阀的中心的线靠输送室列侧的位置，控制部构成为在处理室和相邻的输送室之间送入送出基板时控制驱动机构，使被输送臂保持的基板的中心经过连结输送臂的回旋轴线和基板载置区域的中心的线的外侧。

公开(公告)号：CN106976051B

公开(公告)日：2020-03-06

申请号：CN201611095507.5

申请日：2016-12-02

Applicant: 东京毅力科创株式会社

Inventor： 海濑拓也 ,  曾根浩 ,  铃木直行

IPC: H01L21/683

Abstract: 本发明提供一种处理装置，抑制多个升降销相对于处理装置的载置台的相对移动所引起的颗粒的产生，且提高被加工物向载置台上的搬送精度。一实施方式的处理装置中，在处理容器内设置有载置台。在载置台形成有多个升降销用的多个贯通孔。多个升降销经由支承体被花键轴支承。花键轴由花键轴承可上下移动地支承。多个升降销被弹簧部件经由花键轴向上方施力。花键轴、花键轴承和弹簧部件设置在从处理容器内的可减压的空间分离了的处理容器的外部的空间。

公开(公告)号：CN106976051A

公开(公告)日：2017-07-25

申请号：CN201611095507.5

申请日：2016-12-02

Applicant: 东京毅力科创株式会社

Inventor： 海濑拓也 ,  曾根浩 ,  铃木直行

IPC: B25H1/16 ,  B25H1/08

Abstract: 本发明提供一种处理装置，抑制多个升降销相对于处理装置的载置台的相对移动所引起的颗粒的产生，且提高被加工物向载置台上的搬送精度。一实施方式的处理装置中，在处理容器内设置有载置台。在载置台形成有多个升降销用的多个贯通孔。多个升降销经由支承体被花键轴支承。花键轴由花键轴承可上下移动地支承。多个升降销被弹簧部件经由花键轴向上方施力。花键轴、花键轴承和弹簧部件设置在从处理容器内的可减压的空间分离了的处理容器的外部的空间。