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公开(公告)号：CN112272862A
公开(公告)日：2021-01-26
申请号：CN201980037752.6
申请日：2019-05-30
Applicant: 东京毅力科创株式会社
IPC: H01L21/31 , C23C16/44 , C23C16/511 , H01L21/3065 , H05H1/46
Abstract: 一种微波等离子体处理装置的清洁方法，该微波等离子体处理装置具有处理容器和微波辐射部，且在所述处理容器的配置所述微波辐射部的位置形成有窗部，该清洁方法包括清洁工序，在该清洁工序中，一边供给清洁气体，一边调整为与包括所述处理容器的壁面、所述微波辐射部以及所述窗部的所述处理容器内的配件中的作为清洁对象的配件的尺寸对应的压力，并通过清洁气体的等离子体来进行清洁。
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