公开(公告)号：CN104851771B

公开(公告)日：2018-10-23

申请号：CN201510086922.3

申请日：2015-02-17

Applicant: 东京毅力科创株式会社

Inventor： 岩尾俊彦 ,  平野高广 ,  石桥清隆 ,  川上聪

IPC: H01J37/32 ,  C23C16/513

Abstract: 本发明可将基板上的每个位置通过等离子体区域的时间不均抑制得较低，并且可提高所产生的等离子体的均匀性。本发明所揭示的基板处理装置(10)包括：载置台(14)，能够以轴线(X)为中心旋转地设置；气体供给部，对通过载置台(14)的旋转而基板(W)依序通过的区域供给气体；及等离子体产生部(22)，产生所供给的气体的等离子体；且等离子体产生部(22)包括：天线(22a)，辐射微波；及同轴波导管(22b)，将微波供给至天线(22a)；且在构成从沿着轴线(X)的方向观察天线(22a)的情况下的截面形状的线段包含随着从轴线(X)离开而相互远离的2个线段，同轴波导管(22b)将微波从天线(22a)的重心供给至天线(22a)。

公开(公告)号：CN106067412A

公开(公告)日：2016-11-02

申请号：CN201610258284.3

申请日：2016-04-22

Applicant: 东京毅力科创株式会社

Inventor： 平野高广 ,  岩尾俊彦 ,  加藤贵彰

IPC: H01J37/32 ,  H01J37/20

Abstract: 本发明提供一种等离子体处理装置。等离子体处理装置(10)具备载置台(14)和天线(22a)。载置台14设于处理容器内，用于载置基板(W)。天线(22a)以与载置台(14)相对的方式设于载置台(14)的上方，天线(22a)具有顶板(40)，并经由顶板(40)将微波辐射至处理容器内，由此生成被供给到处理容器内的处理气体的等离子体。顶板(40)具有：平板部(40a)，其设于天线(22a)的下表面，该平板部(40a)的至少与载置台(14)相对的一侧的面形成为平面状；以及肋(40b)，其沿着平板部(40a)的周缘从平板部(40a)朝向上方突出。

公开(公告)号：CN106067412B

公开(公告)日：2019-07-16

申请号：CN201610258284.3

申请日：2016-04-22

Applicant: 东京毅力科创株式会社

Inventor： 平野高广 ,  岩尾俊彦 ,  加藤贵彰

IPC: H01J37/32 ,  H01J37/20

Abstract: 本发明提供一种等离子体处理装置。等离子体处理装置(10)具备载置台(14)和天线(22a)。载置台14设于处理容器内，用于载置基板(W)。天线(22a)以与载置台(14)相对的方式设于载置台(14)的上方，天线(22a)具有顶板(40)，并经由顶板(40)将微波辐射至处理容器内，由此生成被供给到处理容器内的处理气体的等离子体。顶板(40)具有：平板部(40a)，其设于天线(22a)的下表面，该平板部(40a)的至少与载置台(14)相对的一侧的面形成为平面状；以及肋(40b)，其沿着平板部(40a)的周缘从平板部(40a)朝向上方突出。

公开(公告)号：CN104851771A

公开(公告)日：2015-08-19

申请号：CN201510086922.3

申请日：2015-02-17

Applicant: 东京毅力科创株式会社

Inventor： 岩尾俊彦 ,  平野高广 ,  石桥清隆 ,  川上聪

IPC: H01J37/32 ,  C23C16/513

CPC classification number: C23C16/45536 ,  H01J37/32192 ,  H01J37/3222 ,  H01J37/3244 ,  H01J37/32779

Abstract: 本发明可将基板上的每个位置通过等离子体区域的时间不均抑制得较低，并且可提高所产生的等离子体的均匀性。本发明所揭示的基板处理装置(10)包括：载置台(14)，能够以轴线(X)为中心旋转地设置；气体供给部，对通过载置台(14)的旋转而基板(W)依序通过的区域供给气体；及等离子体产生部(22)，产生所供给的气体的等离子体；且等离子体产生部(22)包括：天线(22a)，辐射微波；及同轴波导管(22b)，将微波供给至天线(22a)；且在构成从沿着轴线(X)的方向观察天线(22a)的情况下的截面形状的线段包含随着从轴线(X)离开而相互远离的2个线段，同轴波导管(22b)将微波从天线(22a)的重心供给至天线(22a)。