公开(公告)号：CN106233427A

公开(公告)日：2016-12-14

申请号：CN201580020853.4

申请日：2015-05-18

Applicant: 东京毅力科创株式会社

Inventor： 佐佐木满 ,  三浦达也 ,  大野利弘 ,  小野和宗 ,  远藤翔子 ,  北原竜

IPC: H01L21/02 ,  H01L21/3065

CPC classification number: H01L21/3065 ,  H01J37/32926 ,  H01J37/32935 ,  H01L21/67011

Abstract: 提供一种基板处理装置，该基板处理装置具备按照加工制程中设定的处理过程来控制基板的处理的控制部，其中，所述加工制程与将所述处理过程按功能进行区分且单元化而得到的多个部分制程链接，所述控制部按照所链接的所述多个部分制程中设定的处理过程来控制基板的处理。

公开(公告)号：CN109979868B

公开(公告)日：2023-05-23

申请号：CN201811515565.8

申请日：2018-12-12

Applicant: 东京毅力科创株式会社

Inventor： 小林俊之 ,  北原竜 ,  越石和也 ,  佐藤淳哉 ,  须藤骏 ,  千叶俊光

IPC: H01L21/677

Abstract: 本发明提供一种搬送装置的示教方法，能够抑制铅垂方向的示教精度的偏差。在一个实施方式的搬送装置的示教方法中，搬送装置具有：基板保持部，其具备用于通过抽吸来吸附保持基板的抽吸孔；驱动机构，其使基板保持部移动；以及压力检测部，其检测与抽吸孔连通的抽吸路径的压力，搬送装置的示教方法包括以下步骤：第一移动步骤，使基板保持部移动到基板的下方；第二移动步骤，在对抽吸路径进行抽吸的状态下检测抽吸路径的压力，并且使基板保持部从基板的下方朝向上方移动；判定步骤，基于抽吸路径的压力来判定基板保持部是否接触到基板；以及存储步骤，将判定为基板保持部接触到基板时的基板保持部的位置存储为基准位置。

公开(公告)号：CN106233427B

公开(公告)日：2019-07-09

申请号：CN201580020853.4

申请日：2015-05-18

Applicant: 东京毅力科创株式会社

Inventor： 佐佐木满 ,  三浦达也 ,  大野利弘 ,  小野和宗 ,  远藤翔子 ,  北原竜

IPC: H01L21/02 ,  H01L21/3065

CPC classification number: H01L21/3065 ,  H01J37/32926 ,  H01J37/32935 ,  H01L21/67011

Abstract: 提供一种基板处理装置，该基板处理装置具备按照加工制程中设定的处理过程来控制基板的处理的控制部，其中，所述加工制程与将所述处理过程按功能进行区分且单元化而得到的多个部分制程链接，所述控制部按照所链接的所述多个部分制程中设定的处理过程来控制基板的处理。

公开(公告)号：CN109979868A

公开(公告)日：2019-07-05

申请号：CN201811515565.8

申请日：2018-12-12

Applicant: 东京毅力科创株式会社

Inventor： 小林俊之 ,  北原竜 ,  越石和也 ,  佐藤淳哉 ,  须藤骏 ,  千叶俊光

IPC: H01L21/677

Abstract: 本发明提供一种搬送装置的示教方法，能够抑制铅垂方向的示教精度的偏差。在一个实施方式的搬送装置的示教方法中，搬送装置具有：基板保持部，其具备用于通过抽吸来吸附保持基板的抽吸孔；驱动机构，其使基板保持部移动；以及压力检测部，其检测与抽吸孔连通的抽吸路径的压力，搬送装置的示教方法包括以下步骤：第一移动步骤，使基板保持部移动到基板的下方；第二移动步骤，在对抽吸路径进行抽吸的状态下检测抽吸路径的压力，并且使基板保持部从基板的下方朝向上方移动；判定步骤，基于抽吸路径的压力来判定基板保持部是否接触到基板；以及存储步骤，将判定为基板保持部接触到基板时的基板保持部的位置存储为基准位置。