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公开(公告)号：CN106463391B
公开(公告)日：2019-08-02
申请号：CN201580025777.6
申请日：2015-06-05
Applicant: 东京毅力科创株式会社
IPC: H01L21/3065 , H01L21/205
CPC classification number: H01L21/67069 , H01J37/32449 , H01J37/32633 , H01J37/32715 , H01J37/32834 , H01J2237/334 , H01L21/02274 , H01L21/31116 , H01L21/6719
Abstract: 在一个实施方式的等离子体处理装置中，在载置台与处理容器之间设置有挡板构造。挡板构造具有第一构件和第二构件。第一构件具有在载置台与处理容器之间延伸的第一圆筒部，在铅垂方向上长的多个贯通孔以沿周向排列的方式形成于该第一圆筒部。第二构件具有第二圆筒部，该第二圆筒部具有比第一构件的圆筒部的外径大的内径。第二构件通过驱动装置而在包括第一构件与处理容器之间的间隙的区域中上下移动。
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公开(公告)号：CN106463391A
公开(公告)日：2017-02-22
申请号：CN201580025777.6
申请日：2015-06-05
Applicant: 东京毅力科创株式会社
IPC: H01L21/3065 , H01L21/205
CPC classification number: H01L21/67069 , H01J37/32449 , H01J37/32633 , H01J37/32715 , H01J37/32834 , H01J2237/334 , H01L21/02274 , H01L21/31116 , H01L21/6719
Abstract: 在一个实施方式的等离子体处理装置中，在载置台与处理容器之间设置有挡板构造。挡板构造具有第一构件和第二构件。第一构件具有在载置台与处理容器之间延伸的第一圆筒部，在铅垂方向上长的多个贯通孔以沿周向排列的方式形成于该第一圆筒部。第二构件具有第二圆筒部，该第二圆筒部具有比第一构件的圆筒部的外径大的内径。第二构件通过驱动装置而在包括第一构件与处理容器之间的间隙的区域中上下移动。
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公开(公告)号：CN114975058A
公开(公告)日：2022-08-30
申请号：CN202210121035.5
申请日：2022-02-09
Applicant: 东京毅力科创株式会社
IPC: H01J37/32
Abstract: 本发明提供一种电感耦合等离子体激发用天线、电感耦合等离子体激发用天线组件和等离子体处理装置。该电感耦合等离子体激发用天线包括：多个线圈单元；和导电性板，其与所述多个线圈单元连接，具有中央开口部和至少一个板端子。根据本发明，在使用电感耦合等离子体激发用天线激发等离子体时，提高该天线的磁场生成效率，并且提高磁场强度的周向均匀性。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN108369909A
公开(公告)日：2018-08-03
申请号：CN201680073889.3
申请日：2016-12-02
Applicant: 东京毅力科创株式会社
IPC: H01L21/3065 , H05H1/46
CPC classification number: H01L21/3065 , H05H1/46
Abstract: 等离子体处理装置(10)包括：隔挡件(61)、遮闭件(62)和驱动装置(70)。隔挡件(61)为圆筒形，在侧壁形成有多个贯通孔(61h)。遮闭件(62)为圆筒形，在隔挡件(61)的轴向上沿隔挡件(61)的侧壁可移动地设置于隔挡件(61)的周围。驱动装置(70)使遮闭件(62)沿隔挡件(61)的侧壁移动。多个贯通孔(61h)以遮闭件(62)越向下方移动，与遮闭件(62)的移动量对应的、没有被遮闭件(62)覆盖的合成传导率的变化量越增加的方式配置于隔挡件(61)的侧壁。
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公开(公告)号：CN109587924A
公开(公告)日：2019-04-05
申请号：CN201811138919.1
申请日：2018-09-28
Applicant: 东京毅力科创株式会社
Abstract: 本发明涉及一种等离子体处理装置，能够抑制异常放电并且细致地调整等离子体的密度的分布。等离子体处理装置(10)具备气体喷射部(41)和天线(54)。气体喷射部从腔室(11)的上部向腔室(1)内供给处理气体。天线具有内侧线圈(542)和外侧线圈(541)。内侧线圈设置在气体喷射部的周围。外侧线圈设置在气体喷射部和内侧线圈的周围。另外，构成外侧线圈的线路的两端开放，从高频电源(61)向该线路的中点或者该中点附近供电，外侧线圈在该中点的附近处接地，以从高频电源供给的高频电力的1/2波长进行谐振。另外，关于内侧线圈，构成内侧线圈的线路的两端经由电容器相互连接，内侧线圈与外侧线圈感应耦合。
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公开(公告)号：CN117440590A
公开(公告)日：2024-01-23
申请号：CN202311444879.4
申请日：2018-09-28
Applicant: 东京毅力科创株式会社
Abstract: 本发明涉及一种等离子体处理装置，能够抑制异常放电并且细致地调整等离子体的密度的分布。等离子体处理装置(10)具备气体喷射部(41)和天线(54)。气体喷射部从腔室(11)的上部向腔室(1)内供给处理气体。天线具有内侧线圈(542)和外侧线圈(541)。内侧线圈设置在气体喷射部的周围。外侧线圈设置在气体喷射部和内侧线圈的周围。另外，构成外侧线圈的线路的两端开放，从高频电源(61)向该线路的中点或者该中点附近供电，外侧线圈在该中点的附近处接地，以从高频电源供给的高频电力的1/2波长进行谐振。另外，关于内侧线圈，构成内侧线圈的线路的两端经由电容器相互连接，内侧线圈与外侧线圈感应耦合。
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公开(公告)号：CN117440590B
公开(公告)日：2024-12-27
申请号：CN202311444879.4
申请日：2018-09-28
Applicant: 东京毅力科创株式会社
IPC: H01J37/32
Abstract: 本发明涉及一种等离子体处理装置，能够抑制异常放电并且细致地调整等离子体的密度的分布。等离子体处理装置(10)具备气体喷射部(41)和天线(54)。气体喷射部从腔室(11)的上部向腔室(1)内供给处理气体。天线具有内侧线圈(542)和外侧线圈(541)。内侧线圈设置在气体喷射部的周围。外侧线圈设置在气体喷射部和内侧线圈的周围。另外，构成外侧线圈的线路的两端开放，从高频电源(61)向该线路的中点或者该中点附近供电，外侧线圈在该中点的附近处接地，以从高频电源供给的高频电力的1/2波长进行谐振。另外，关于内侧线圈，构成内侧线圈的线路的两端经由电容器相互连接，内侧线圈与外侧线圈感应耦合。
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公开(公告)号：CN108369909B
公开(公告)日：2022-07-01
申请号：CN201680073889.3
申请日：2016-12-02
Applicant: 东京毅力科创株式会社
IPC: H01L21/3065 , H05H1/46
Abstract: 等离子体处理装置(10)包括：隔挡件(61)、遮闭件(62)和驱动装置(70)。隔挡件(61)为圆筒形，在侧壁形成有多个贯通孔(61h)。遮闭件(62)为圆筒形，在隔挡件(61)的轴向上沿隔挡件(61)的侧壁可移动地设置于隔挡件(61)的周围。驱动装置(70)使遮闭件(62)沿隔挡件(61)的侧壁移动。多个贯通孔(61h)以遮闭件(62)越向下方移动，与遮闭件(62)的移动量对应的、没有被遮闭件(62)覆盖的的合成传导率的变化量越增加的方式配置于隔挡件(61)的侧壁。
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