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公开(公告)号：CN112241106A
公开(公告)日：2021-01-19
申请号：CN202010681978.4
申请日：2020-07-15
Applicant: 东京应化工业株式会社
Abstract: 本发明涉及一种厚膜用光致抗蚀剂组合物，是用于在支承体上形成厚膜光致抗蚀剂层的厚膜用光致抗蚀剂组合物，其特征在于，含有对显影液的溶解性因酸的作用而变化的树脂(A)、通过曝光产生酸的产酸剂(B)、添加剂(E)及溶剂(S)，所述添加剂(E)含有具有选自羟基、氨基、巯基、羧基及磺酸基构成的组的1个以上的极性基团的化合物，以所述溶剂(S)100重量份为基准，所述添加剂(E)的含量为5～30重量份。
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公开(公告)号：CN110275395B
公开(公告)日：2024-05-17
申请号：CN201910194272.2
申请日：2019-03-14
Applicant: 东京应化工业株式会社
Abstract: 提供抗蚀剂组合物以及抗蚀剂图案形成方法。一种抗蚀剂组合物，其是含有对显影液的溶解性因酸的作用而变化的基材成分(A)和通过曝光产生酸的产酸剂成分(B)的抗蚀剂组合物，上述基材成分(A)含有高分子化合物(A1)，所述高分子化合物(A1)含有具有酸分解性基团的结构单元(a1)，上述具有酸分解性基团的结构单元(a1)相对于上述高分子化合物(A1)的全部结构单元以51摩尔％～59摩尔％含有，上述具有酸分解性基团的结构单元(a1)含有下述式(a1－1)表示的结构单元(式中，R表示氢原子、烷基或卤代烷基；Z表示单键或亚烷基；Cp为式(Cp－1)表示的基团；R1为叔烷基；np为正整数；＊表示与Z的键合位置)。#imgabs0#
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公开(公告)号：CN113281963A
公开(公告)日：2021-08-20
申请号：CN202110172216.6
申请日：2021-02-08
Applicant: 东京应化工业株式会社
Abstract: 本发明涉及一种抗蚀剂组合物，含有：对显影液的溶解性因酸的作用而变化的基材成分(A)、通过曝光产生酸的产酸剂成分(B)、酸扩散控制剂成分(D)、以及以式(e‑1)表示的含乙烯基化合物(E)，所述基材成分(A)的质均分子量为8000～18000，固体成分浓度为25质量％以上(式中，R27为碳数为1～10的支链状或直链状的亚烷基或者以式(e‑2)表示的基团；R28分别独立地为碳数为1～10的支链状或直链状的亚烷基，所述亚烷基可以在主链上含有醚键；c分别独立地为0或1)。
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公开(公告)号：CN110275395A
公开(公告)日：2019-09-24
申请号：CN201910194272.2
申请日：2019-03-14
Applicant: 东京应化工业株式会社
Abstract: 提供抗蚀剂组合物以及抗蚀剂图案形成方法。一种抗蚀剂组合物，其是含有对显影液的溶解性因酸的作用而变化的基材成分(A)和通过曝光产生酸的产酸剂成分(B)的抗蚀剂组合物，上述基材成分(A)含有高分子化合物(A1)，所述高分子化合物(A1)含有具有酸分解性基团的结构单元(a1)，上述具有酸分解性基团的结构单元(a1)相对于上述高分子化合物(A1)的全部结构单元以51摩尔％～59摩尔％含有，上述具有酸分解性基团的结构单元(a1)含有下述式(a1－1)表示的结构单元(式中，R表示氢原子、烷基或卤代烷基；Z表示单键或亚烷基；Cp为式(Cp－1)表示的基团；R1为叔烷基；np为正整数；＊表示与Z的键合位置)。
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