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发明公开
抗蚀剂下层膜形成用组合物、抗蚀剂图案形成方法、抗蚀剂下层膜图案的形成方法及图案形成方法审中-实审

公开(公告)号：CN118511128A

公开(公告)日：2024-08-16

申请号：CN202280087598.5

申请日：2022-12-22

Applicant: 东京应化工业株式会社

Inventor： 衣幡庆一 , 竹下优

IPC: G03F7/11 , G03F7/20 , H01L21/027

Abstract: 一种抗蚀剂下层膜形成用组合物，其含有呋喃树脂、因热而产生酸的热产酸剂成分和溶剂。此外，一种抗蚀剂图案形成方法，其包括：使用所述抗蚀剂下层膜形成用组合物在基板上形成抗蚀剂下层膜的工序；使用抗蚀剂组合物在所述抗蚀剂下层膜上形成抗蚀剂膜的工序；对所述抗蚀剂膜进行曝光的工序；对所述曝光后的抗蚀剂膜进行显影而形成抗蚀剂图案的工序。一种包括所述抗蚀剂图案形成方法的抗蚀剂下层膜图案的形成方法及图案形成方法。

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