公开(公告)号：CN101421105B

公开(公告)日：2013-10-09

申请号：CN200780012847.X

申请日：2007-04-12

Applicant: 东丽株式会社 ,  东丽薄膜先端加工株式会社

Inventor： 荒井崇 ,  立石康 ,  广田草人 ,  奥津涉 ,  寺西正芳

IPC: B32B27/38 ,  B05D7/24 ,  B32B9/00 ,  B32B27/40 ,  B65D65/40 ,  B65D81/24

CPC classification number: C08J7/045 ,  B05D7/52 ,  B05D2350/63 ,  C08J2463/00 ,  Y10T428/31511 ,  Y10T428/31515

Abstract: 本发明要提供同时具有优异的氧气和水蒸气阻隔性、对加热蒸煮处理等加热杀菌处理的优异耐性的气体阻隔性膜。本发明的第1种气体阻隔性膜特征在于，在基材膜的一面上设有由无机化合物形成的蒸镀层，在该蒸镀层上设有由含有下述式(1)所示的骨架结构的聚环氧系固化生成物形成的气体阻隔层，在该气体阻隔层上设有由选自聚环氧树脂、聚酯树脂、和聚丙烯酸树脂中的至少一种树脂形成的外覆层。进而，本发明的第2种气体阻隔性膜特征在于，在基材膜的一面上设有由无机化合物形成的蒸镀层，在该蒸镀层上设有由聚氨酯树脂形成的气体阻隔层，在该气体阻隔层上设有由聚酯树脂和/或聚丙烯酸树脂形成的外覆层。 式(1)

公开(公告)号：CN101421105A

公开(公告)日：2009-04-29

申请号：CN200780012847.X

申请日：2007-04-12

Applicant: 东丽株式会社 ,  东丽薄膜先端加工株式会社

Inventor： 荒井崇 ,  立石康 ,  广田草人 ,  奥津涉 ,  寺西正芳

IPC: B32B27/38 ,  B05D7/24 ,  B32B9/00 ,  B32B27/40 ,  B65D65/40 ,  B65D81/24

CPC classification number: C08J7/045 ,  B05D7/52 ,  B05D2350/63 ,  C08J2463/00 ,  Y10T428/31511 ,  Y10T428/31515

Abstract: 本发明要提供同时具有优异的氧气和水蒸气阻隔性、对加热蒸煮处理等加热杀菌处理的优异耐性的气体阻隔性膜。本发明的第1种气体阻隔性膜特征在于，在基材膜的一面上设有由无机化合物形成的蒸镀层，在该蒸镀层上设有由含有所述式(1)所示的骨架结构的聚环氧系固化生成物形成的气体阻隔层，在该气体阻隔层上设有由选自聚环氧树脂、聚酯树脂、和聚丙烯酸树脂中的至少一种树脂形成的外覆层。进而，本发明的第2种气体阻隔性膜特征在于，在基材膜的一面上设有由无机化合物形成的蒸镀层，在该蒸镀层上设有由聚氨酯树脂形成的气体阻隔层，在该气体阻隔层上设有由聚酯树脂和/或聚丙烯酸树脂形成的外覆层。