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公开(公告)号：CN1204977C
公开(公告)日：2005-06-08
申请号：CN01130337.9
申请日：2001-10-09
Applicant: 东丽株式会社
CPC classification number: C03C17/001 , B05C11/10
Abstract: 一种单页型涂布机，其中恒量的涂布溶液从涂布溶液供应源经过预定涂布溶液量间歇式供应设备和涂布溶液施涂设备被间歇地提供给空白底材，从而用涂布溶液一个接一个地涂布空白底材，其特征在于涂布溶液过滤设备被装配在从所述涂布溶液供应源到涂布溶液施涂设备的涂布溶液流动管道上，所述涂布溶液过滤设备中过滤介质的杨氏模量不小于200MPa，过滤介质的孔径为0.05-100微米；及用所述单页型涂布机制备涂布底材的方法。
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公开(公告)号：CN100545213C
公开(公告)日：2009-09-30
申请号：CN200480030614.9
申请日：2004-10-14
Applicant: 东丽株式会社
IPC: C08L101/00 , C08L33/06 , C08L79/08 , C08K3/28 , G02B5/20
CPC classification number: C09D133/06 , G02B5/201 , Y10T428/10
Abstract: 本发明公开了一种黑色被膜组合物，其可以提供迄今为止只能用金属薄膜黑矩阵才能实现的高OD值、且高粘结性的树脂黑矩阵。该黑色被膜组合物，含有钛酸氮化物、树脂和溶剂作为必须成分，在设以CuKα射线作为X射线源的情况下，钛酸氮化物的衍射角2θ为25°～26°时的最大衍射线强度为I1，衍射角2θ为27°～28°时的最大衍射线强度为I2，衍射角2θ为36°～38°时的最大衍射线强度为I3时，下述式(1)和式(2)所示的X射线强度比R1和R2分别具有下述式(3)和式(4)的关系：R1＝I3/{I3+1.8(I1+1.8I2)} (1)，R2＝I2/I1(2)，R1＞0.70 (3)，0.85＜R2＜1.80 (4)。
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公开(公告)号：CN1867636A
公开(公告)日：2006-11-22
申请号：CN200480030614.9
申请日：2004-10-14
Applicant: 东丽株式会社
IPC: C08L101/00 , C08L33/06 , C08L79/08 , C08K3/28 , G02B5/20
CPC classification number: C09D133/06 , G02B5/201 , Y10T428/10
Abstract: 本发明公开了一种黑色被膜组合物，其可以提供迄今为止只能用金属薄膜黑矩阵才能实现的高OD值、且高粘结性的树脂黑矩阵。该黑色被膜组合物，含有钛酸氮化物、树脂和溶剂作为必须成分，在设以CuKα射线作为X射线源的情况下，钛酸氮化物的衍射角2θ为25°～26°时的最大衍射线强度为I1，衍射角2θ为27°～28°时的最大衍射线强度为I2，衍射角2θ为36°～38°时的最大衍射线强度为I3时，下述式(1)和式(2)所示的X射线强度比R1和R2分别具有下述式(3)和式(4)的关系：R1＝I3/{I3+1.8(I1+1.8I2)} (1)R2＝I2/I1(2)R1＞0.70 (3)0.85＜R2＜1.80 (4)。
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公开(公告)号：CN1348838A
公开(公告)日：2002-05-15
申请号：CN01130337.9
申请日：2001-10-09
Applicant: 东丽株式会社
CPC classification number: C03C17/001 , B05C11/10
Abstract: 一种翻页型涂布机,其中恒量的涂布溶液从涂布溶液供应源经过预定涂布溶液量间歇式供应设备和涂布溶液施涂设备被间歇地提供给空白底材,从而用涂布溶液一个接一个地涂布空白底材,其特征在于涂布溶液过滤设备被装配在从所述涂布溶液供应源到涂布溶液施涂设备的涂布溶液流动管道上,所述涂布溶液过滤设备中过滤介质的杨氏模量不小于200MPa,过滤介质的孔径为0.05－100微米;及用所述翻页型涂布机制备涂布底材的方法。
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