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公开(公告)号：CN101356604A
公开(公告)日：2009-01-28
申请号：CN200680050894.9
申请日：2006-12-20
Applicant: 东丽株式会社
Inventor： 宫本亮 , 广田草人
IPC: H01G4/18 , B32B15/08
Abstract: 本发明提供以往得不到的耐受电压优异的金属化电容器用薄膜和使用该薄膜的电容器。本发明的金属化电容器用薄膜，其特征在于，在高分子薄膜的至少一面上，从高分子薄膜侧起顺序地层叠有由硅氧烷组合物形成的涂层和金属层。
