公开(公告)号：CN103846781B

公开(公告)日：2017-09-22

申请号：CN201310641959.9

申请日：2013-12-03

Applicant: 不二越机械工业株式会社 ,  独立行政法人产业技术综合研究所

Inventor： 中村由夫 ,  大塚美雄 ,  大久保贵史 ,  澁谷和孝 ,  布施贵之 ,  原史朗 ,  耸嘛玩 ,  池田伸一

IPC: B24B37/10

CPC classification number: B24B7/228 ,  B24B37/105 ,  B24B37/16 ,  B24B37/26 ,  B24B37/30 ,  B24B37/345 ,  B24B53/017

Abstract: 晶圆研磨设备包括研磨板、能够保持晶圆的研磨头和研磨液供给部。该研磨板包括：多个同心的研磨区，各研磨区均具有用于研磨晶圆的规定宽度并且在各研磨区上均贴附研磨布；以及用于排出研磨液的槽，该槽形成在研磨区之间。用于清洁研磨头的头清洁部或用于清洁研磨后的晶圆的晶圆清洁部设置到研磨板的中心部分并且位于最内侧研磨区的内侧。

公开(公告)号：CN103846781A

公开(公告)日：2014-06-11

申请号：CN201310641959.9

申请日：2013-12-03

Applicant: 不二越机械工业株式会社 ,  独立行政法人产业技术综合研究所

Inventor： 中村由夫 ,  大塚美雄 ,  大久保贵史 ,  澁谷和孝 ,  布施贵之 ,  原史朗 ,  耸嘛玩 ,  池田伸一

IPC: B24B37/10

CPC classification number: B24B7/228 ,  B24B37/105 ,  B24B37/16 ,  B24B37/26 ,  B24B37/30 ,  B24B37/345 ,  B24B53/017 ,  H01L21/02041

Abstract: 晶圆研磨设备包括研磨板、能够保持晶圆的研磨头和研磨液供给部。该研磨板包括：多个同心的研磨区，各研磨区均具有用于研磨晶圆的规定宽度并且在各研磨区上均贴附研磨布；以及用于排出研磨液的槽，该槽形成在研磨区之间。用于清洁研磨头的头清洁部或用于清洁研磨后的晶圆的晶圆清洁部设置到研磨板的中心部分并且位于最内侧研磨区的内侧。