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公开(公告)号：CN1146623C
公开(公告)日：2004-04-21
申请号：CN99124888.0
申请日：1999-11-17
Applicant: 不二见株式会社 , 东邦化学工业株式会社
CPC classification number: C09G1/02 , C09K3/1463
Abstract: 1种包含(a)水，(b)至少一种选自聚苯乙烯磺酸及其盐的化合物，(c)选自除组分(b)的无机酸、有机酸及它们的盐类的化合物，(d)至少一种选自氧化铝、二氧化硅、氧化铈、氧化锆、氧化钛、氮化硅及二氧化锰的研磨材料，在对用于存储器硬盘的基片进行抛光时研磨速度更快、消泡性更好、并可防止微细凹痕、微小突起及其他表面缺陷产生的研磨用组合物；1种包含以上(a)～(c)组分，在对基片进行抛光的前处理及(或)后处理时消泡性更好，并可充分除去基片表面附着物和研磨粉等的漂洗用组合物。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN1253963A
公开(公告)日：2000-05-24
申请号：CN99124888.0
申请日：1999-11-17
Applicant: 不二见株式会社 , 东邦化学工业株式会社
CPC classification number: C09G1/02 , C09K3/1463
Abstract: 一种包含(a)水,(b)至少一种选自聚苯乙烯磺酸及其盐的化合物,(c)选自除组分(b)的无机酸、有机酸及它们的盐类的化合物,(d)至少一种选自氧化铝、二氧化硅、氧化铈、氧化锆、氧化钛、氮化硅及二氧化锰的研磨材料,在对用于存储器硬盘的基片进行抛光时研磨速度更快、消泡性更好、并可防止微细凹痕、微小突起及其他表面缺陷产生的研磨用组合物;1种包含以上(a)～(c)组分,在对基片进行抛光的前处理及(或)后处理时消泡性更好,并可充分除去基片表面附着物和研磨粉等的漂洗用组合物。
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公开(公告)号：CN1515640A
公开(公告)日：2004-07-28
申请号：CN03100995.6
申请日：1999-06-15
Applicant: 不二见株式会社
Inventor： 谷克己
IPC: C09G1/02
CPC classification number: C09G1/02 , C09K3/1409 , C09K3/1463
Abstract: 公开了一种抛光组合物用于抛光存储器硬盘的用途，该组合物包含水和选自氧化铝、二氧化硅、氧化铈、氧化锆、氧化钛、氮化硅和二氧化锰中的至少一种磨料，该组合物还含有丁二酸或其盐溶解于其中。还公开了一种抛光存储器硬盘的方法，该方法使用了一种用于存储器硬盘的抛光组合物，该组合物包含水和选自氧化铝、二氧化硅、氧化铈、氧化锆、氧化钛、氮化硅和二氧化锰中的至少一种磨料，该组合物还含有丁二酸或其盐溶解于其中。
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公开(公告)号：CN1240798C
公开(公告)日：2006-02-08
申请号：CN03100995.6
申请日：1999-06-15
Applicant: 不二见株式会社
Inventor： 谷克己
IPC: C09G1/02
CPC classification number: C09G1/02 , C09K3/1409 , C09K3/1463
Abstract: 公开了一种抛光组合物用于抛光存储器硬盘的用途，该组合物包含水和选自氧化铝、二氧化硅、氧化铈、氧化锆、氧化钛、氮化硅和二氧化锰中的至少一种磨料，该组合物还含有丁二酸或其盐溶解于其中。还公开了一种抛光存储器硬盘的方法，该方法使用了一种用于存储器硬盘的抛光组合物，该组合物包含水和选自氧化铝、二氧化硅、氧化铈、氧化锆、氧化钛、氮化硅和二氧化锰中的至少一种磨料，该组合物还含有丁二酸或其盐溶解于其中。
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公开(公告)号：CN1129656C
公开(公告)日：2003-12-03
申请号：CN99108657.0
申请日：1999-06-15
Applicant: 不二见株式会社
Inventor： 谷克己
IPC: C09G1/02
CPC classification number: C09G1/02 , C09K3/1409 , C09K3/1463
Abstract: 一种用于存储器硬盘的抛光组合物，它包含水和选自氧化铝、二氧化硅、氧化铈、氧化锆、氧化钛、氮化硅和二氧化锰中的至少一种磨料，该组合物还含有丁二酸或其盐溶解于其中。
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公开(公告)号：CN1239129A
公开(公告)日：1999-12-22
申请号：CN99108657.0
申请日：1999-06-15
Applicant: 不二见株式会社
Inventor： 谷克己
IPC: C09G1/02
CPC classification number: C09G1/02 , C09K3/1409 , C09K3/1463
Abstract: 一种用于存储器硬盘的抛光组合物，它包含水和选自氧化铝、二氧化硅、氧化铈、氧化锆、氧化钛、氮化硅和二氧化锰中的至少一种磨料，该组合物还含有丁二酸或其盐溶解于其中。
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