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公开(公告)号：CN110261883B
公开(公告)日：2021-03-16
申请号：CN201910566502.3
申请日：2019-06-27
Applicant: 上海联影医疗科技股份有限公司
Abstract: 本申请涉及一种剂量监测装置和放射治疗装置。所述剂量监测装置包括：电离室，所述电离室限定有非封闭的腔体；温度传感器，所述温度传感器设置于所述电离室外部，用于采集所述电离室的环境温度；加热组件，所述加热组件设置于所述电离室的外部，用于调节所述电离室的环境温度和湿度；控制装置，与所述加热组件电连接，用于控制所述加热组件的至少一个参数以使得所述温度传感器测量得到的环境温度在预设阈值范围内。本申请通过设置于电离室外部的加热组件以及控制装置，便捷地调控电离室的环境温度和湿度，使得电离室可以工作在稳定的环境下，以提高设备稳定性。
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