一种高压熔断器壳体直立自动灌砂机构

    公开(公告)号:CN119297043A

    公开(公告)日:2025-01-10

    申请号:CN202411285711.8

    申请日:2024-09-13

    Abstract: 本发明属于高压熔断器领域,公开了一种高压熔断器壳体直立自动灌砂机构,包括基盘组件、壳体固定单元、灌砂过孔、储砂容器以及灌砂阀,基盘组件包括底部承载基盘和顶部承载基盘,壳体固定单元设置在底部承载基盘上且可竖直移动,壳体固定单元包括壳体定位基座,灌砂过孔形成于顶部承载基盘上,且与壳体定位基座对应,储砂容器通过灌砂阀向高压熔断器壳体内灌砂,灌砂阀包括阀芯管、阀身套筒以及压缩弹簧,阀芯管具有直管部和堵头部,直管部具有过砂通道,过砂通道形成向外开放的过砂口,过砂口位于堵头部的近旁,阀身套筒套设在阀芯管的外部,阀嘴形成于阀身套筒的底部,阀身套筒的内部封堵颈口,直管部插设在封堵颈口内,堵头部将封堵颈口封闭。

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