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发明公开
一种降低取向硅钢激光刻痕铁损的方法审中-实审

公开(公告)号：CN118559211A

公开(公告)日：2024-08-30

申请号：CN202410784728.1

申请日：2024-06-18

Applicant: 上海工程技术大学

Inventor： 陈捷狮 , 张文帅 , 林猛 , 张廉凯 , 冯军 , 李荣奇

IPC: B23K26/36 , C21D9/46 , B23K26/14

Abstract: 本发明属于硅钢技术领域，具体提供了一种降低取向硅钢激光刻痕铁损的方法，采用整形光斑在取向硅钢片表面进行激光刻痕，通过热处理将刻痕后的取向硅钢片升温至目标温度，在气体中对升温后的取向硅钢片保温至目标时间后，将取向硅钢片冷却至常温；解决了刻痕时取向硅钢表面不留明显刻痕痕迹，以及降低铁损不能同时兼容的问题；本发明使得表面涂层无明显破坏痕迹的同时降低铁损。

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