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公开(公告)号:CN203284494U
公开(公告)日:2013-11-13
申请号:CN201320212677.2
申请日:2013-04-24
Applicant: 上海工程技术大学
IPC: C25D17/12
Abstract: 本实用新型涉及一种高速电镀设备用旋转阴极导电机构,包括石墨轴承、阴极轴、导电铜片、轴承固定箱体及固定支架,固定支架连接在操作台上,轴承固定箱体设置在固定支架上,该轴承固定箱体内设置所述的石墨轴承,导电铜片设置在石墨轴承的外圈以及轴承固定箱体之间,阴极轴穿过石墨轴承。与现有技术相比,本实用新型更大程度改善了阴极轴电流的均匀分布状况,有利于均匀电流的形成,提高了电镀速度,保证镀层质量。