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公开(公告)号：CN110508158B
公开(公告)日：2021-10-08
申请号：CN201910738205.2
申请日：2019-08-12
Applicant: 上海工程技术大学
Abstract: 本发明涉及一种制备超薄SAPO‑34分子筛膜的方法，制备SAPO‑34纳米晶种；将SAPO‑34纳米晶种涂覆多孔载体管上；配制超浓的SAPO‑34分子筛膜合成母液；将多孔载体管置于分子筛膜合成母液中，置于烘箱中加热，水热晶化得到SAPO‑34分子筛膜，然后洗涤、干燥；高温焙烧脱除模板剂，得到活化的SAPO‑34分子筛膜。与现有技术相比，本发明有效降低了SAPO‑34分子筛膜的厚度至800纳米，从而大幅降低了传质阻力，提高了渗透率，此法也可适用于其它SAPO(硅磷铝型)或AlPO(磷铝型)分子筛膜的合成。
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公开(公告)号：CN110683559A
公开(公告)日：2020-01-14
申请号：CN201910778776.9
申请日：2019-08-22
Applicant: 上海工程技术大学
Abstract: 本发明涉及一种超薄SSZ-13分子筛膜的绿色合成方法：1)制备全硅CHA分子筛晶种，球磨后得到纳米级全硅CHA晶种；2)将纳米级全硅CHA晶种均匀涂覆到多孔载体管上；3)配制SSZ-13分子筛膜合成母液；4)将步骤2)得到的多孔载体管和步骤3)所得母液置于同一晶化釜中；5)将晶化釜置于烘箱中水热合成6～12天，合成温度为60～120℃；合成结束后，得到的膜管经洗涤、干燥处理；6)高温焙烧脱除模板剂，得到活化的SSZ-13分子筛膜。本发明在低温下合成超薄SSZ-13分子筛膜，极大的降低了合成温度，在常压下合成SSZ-13分子筛膜，避免了高压晶化釜的使用，同时降低了SSZ-13分子筛膜的厚度至400～700纳米，从而大幅降低了传质阻力，提高了渗透率。此法也可适用于其它分子筛膜的合成。
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公开(公告)号：CN110508158A
公开(公告)日：2019-11-29
申请号：CN201910738205.2
申请日：2019-08-12
Applicant: 上海工程技术大学
Abstract: 本发明涉及一种制备超薄SAPO-34分子筛膜的方法，制备SAPO-34纳米晶种；将SAPO-34纳米晶种涂覆多孔载体管上；配制超浓的SAPO-34分子筛膜合成母液；将多孔载体管置于分子筛膜合成母液中，置于烘箱中加热，水热晶化得到SAPO-34分子筛膜，然后洗涤、干燥；高温焙烧脱除模板剂，得到活化的SAPO-34分子筛膜。与现有技术相比，本发明有效降低了SAPO-34分子筛膜的厚度至800纳米，从而大幅降低了传质阻力，提高了渗透率，此法也可适用于其它SAPO(硅磷铝型)或AlPO(磷铝型)分子筛膜的合成。
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公开(公告)号：CN110605029A
公开(公告)日：2019-12-24
申请号：CN201910779384.4
申请日：2019-08-22
Applicant: 上海工程技术大学
Abstract: 本发明涉及一种合成DDR分子筛膜的方法，DDR分子筛粉体经球磨得到亚微米级的DDR分子筛晶种；将硅源、金刚烷胺、四乙基氢氧化铵和水混合得到DDR分子筛膜合成母液；将DDR分子筛晶种涂覆到多孔载体管上；将DDR分子筛膜合成母液和多孔载体管置于晶化釜中进行水热合成处理，合成结束后，得到膜管经洗涤、干燥；在臭氧气氛下焙烧脱除四乙基氢氧化铵，得到活化的DDR分子筛膜。与现有技术相比，本发明利用金刚烷胺和四乙基氢氧化铵混合模板剂，四乙基氢氧化铵的加入抑制了杂项的生成，从而可以在高温下快速合成DDR分子筛膜，大幅缩短了晶化时间，得到的DDR分子筛膜具有较高的CO2-CH4分离选择性。
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