一种磁场辅助激光清洗方法
    1.
    发明公开

    公开(公告)号:CN117960703A

    公开(公告)日:2024-05-03

    申请号:CN202410152586.7

    申请日:2024-02-03

    Abstract: 本发明提供了一种磁场辅助激光清洗方法,根据多种清洗对象的多种清洗要求,确定适配的磁场辅助激光清洗的最优工艺参数、最有效磁场模式、最合理磁场方式、最佳耦合工序、最恰当激光清洗方式,以满足多种待清洗对象的清洗需求,多因素有机融合构成了高效、优质、精密、经济的磁场辅助激光清洗方法。

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