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公开(公告)号：CN105647478A
公开(公告)日：2016-06-08
申请号：CN201610130530.7
申请日：2016-03-08
Applicant: 上海大学
CPC classification number: C09K3/1436 , C09G1/02
Abstract: 本发明公开了一种镍元素掺杂二氧化硅复合磨粒、抛光液组合物及其制备方法，所述的抛光液组合物的制备方法，其步骤：a.将上述的镍掺杂二氧化硅复合颗粒溶胶体系送入350目过滤筛，过滤，除去其中的大颗粒，筛得粒径为100-120纳米的颗粒；b.将氢氧化钠加入复合磨粒溶液中，控制溶液pH值为9.5-10.5；c．加入质量百分比含量为0.2-3%的分散剂三聚磷酸钠、质量百分比含量为0.01-1%的表面活性剂十二烷基苯磺酸钠，均匀混合即得抛光液组合物。采用本发明提供的抛光液组合物对蓝宝石基片进行抛光，可以提高蓝宝石表面去除速率，降低蓝宝石表面的粗糙度。
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公开(公告)号：CN104946202A
公开(公告)日：2015-09-30
申请号：CN201510276371.7
申请日：2015-05-26
Applicant: 上海大学
Abstract: 本发明涉及铁元素掺杂氧化硅溶胶的复合磨粒、抛光液组合物及其制备方法。该复合磨粒的制备方法为：质量分数为0.29%氯化铁溶液与质量分数为2-3%稀硅酸溶液以等质量比，在一定反应条件下加入氧化硅晶种中，通过硅溶胶长大过程将铁元素掺杂到氧化硅溶胶磨粒中去，形成均一、稳定的铁元素掺杂硅溶胶的复合磨粒，且掺杂质量比为0.1%-5.0%。本发明的复合磨粒的物理结构为纳米级的球形，该磨粒的化学组成上含有铁元素，铁元素的作用是可与蓝宝石、硅片表面发生化学作用，提高了抛光速率。本发明提供的抛光液对蓝宝石基片和硅片进行抛光，可以有效降低蓝宝石和硅片表面的粗糙度及微粗糙度，且提高蓝宝石和硅片的抛光速率。
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公开(公告)号：CN104877633A
公开(公告)日：2015-09-02
申请号：CN201510276373.6
申请日：2015-05-26
Applicant: 上海大学
Abstract: 本发明涉及一种镁掺杂二氧化硅溶胶的复合磨粒、抛光液组合物及其制备方法。该复合磨粒的制备方法为：质量分数为1.1wt%的硝酸镁溶液和2.5wt%的硅酸溶液按质量比1:1混合，通过共沉淀法沉淀在二氧化硅晶种上。溶胶中的复合颗粒呈均匀球形，氢氧化镁相对氧化硅的掺杂量为0.1wt%-5wt%。采用本发明的复合磨粒制备抛光液。镁元素以氢氧化镁形式掺杂入二氧化硅颗粒，在抛光过程中可以和蓝宝石表面层发生化学反应，提高了抛光速率。溶胶中的复合磨粒呈现均匀球形，球形结构可以减小抛光过程中对蓝宝石基片的划削，保持表面的光滑性。因而，采用本发明提供的抛光液对蓝宝石基片进行抛光，可以有效提高蓝宝石基片的去除率，并降低蓝宝石表面的粗糙度。
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公开(公告)号：CN104497888A
公开(公告)日：2015-04-08
申请号：CN201410568609.9
申请日：2014-10-22
Applicant: 上海大学
IPC: C09G1/18
CPC classification number: C09G1/18
Abstract: 本发明公开了一种含引发剂的存储器硬盘基片的无磨粒抛光液组合物，0.01~0.12%偶氮类引发剂、1.0~6.0%氧化剂双氧水、1.0~4.0%分散剂六偏磷酸钠、1.0~4.0%表面活性剂十六烷基聚氧乙烯醚羧酸盐和余量的去离子水。本发明抛光液制备方法为：按抛光液组分称取各原料，在搅拌作用下，依次将引发剂、分散剂和表面活性剂加入到去离子水中，待搅拌溶解后，在不断搅拌下加入氧化剂，得到透明液，即得到抛光液组合物。本发明抛光液不含颗粒，同时含有引发剂，特别适用于Ni-P镀敷的计算机硬盘基片抛光，使用该抛光液抛后可提高基片去除速率，减少表面微观划痕、凹陷，提高硬盘基片表面平整度。
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