公开(公告)号：CN116887611A

公开(公告)日：2023-10-13

申请号：CN202311083832.X

申请日：2023-08-25

Applicant: 上海大学

Inventor： 周璐露 ,  朱杨洋 ,  赵微 ,  施薇 ,  林洋 ,  魏斌

IPC: H10K50/15 ,  H10K30/86 ,  H10K30/50 ,  H10K85/10 ,  H10K85/20 ,  H10K71/12 ,  H10K71/16 ,  H10K71/40 ,  H10K71/60

Abstract: 本发明提供了一种抗紫外光电子薄膜及其制备方法和应用，属于光电子薄膜技术领域。本发明提供了一种抗紫外光电子薄膜，包括由下至上依次设置的ITO‑玻璃基板、石墨烯‑PEDOT:PSS空穴传输层、活性层、BCP电子传输层和Al电极层。本发明以石墨烯与PEDOT:PSS混合组成空穴传输层，利用PEPDOT:PSS的透明性、表面形貌光滑、电化学稳定性，结合石墨烯表面积大、电荷载流子迁移率高、光学透射率高的优点来抑制器件在紫外照射下的光电性能衰减过程，提高有机发光二极管或有机太阳能电池的空穴注入和传输，进而提高光电性能，同时提高器件在紫外光照下稳定性。