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公开(公告)号:CN118059238A
公开(公告)日:2024-05-24
申请号:CN202410130923.2
申请日:2024-01-31
Applicant: 上海大学
Abstract: 本发明涉及基于交替异质层结构Bi2O2SiO3的表面缺陷工程纳米片及其制备方法与应用。该纳米片为由交替的BiO2和SiO3层组成的异质层状结构,且所述异质层状结构表面存在O缺陷和Bi单质。表面缺陷工程纳米片由若干单个纳米片组成,单个纳米片为BiO2纳米片和SiO3纳米片,单个纳米片的直径大小为140‑240nm,单个纳米片在层内表面铺展,层间堆叠,最终形成由BiO2纳米片和SiO3纳米片组成的多层的层状结构。具有超声波响应特性,可用作声敏剂;同时具有类过氧化物酶、过氧化氢酶等类酶属性,可消耗肿瘤内源性过氧化氢催化产生氧气和羟基自由基。产生的氧气能够缓解肿瘤乏氧,增强声动力治疗效果。在超声下具有比Bi2O2SiO3更优异的活性氧产生能力,可作为新型声敏剂/纳米酶用于肿瘤治疗。