公开(公告)号：CN117293009A

公开(公告)日：2023-12-26

申请号：CN202311319730.3

申请日：2023-10-12

Applicant: 上海复享光学股份有限公司

Inventor： 沈唐尧 ,  陆祺峰 ,  叶俊燚 ,  贺晓龙 ,  章炜毅 ,  殷海玮 ,  石磊

IPC: H01J37/32 ,  H01L21/66

Abstract: 本发明涉及一种刻蚀终点检测方法，包括如下步骤：采集实部信号，对该实部信号进行Hilbert变换，得到对应的虚部信号；将实部信号加上虚部信号，得到分析信号；基于分析信号计算幅角随时间变化的幅角函数；对幅角函数进行解包裹，得到相位随时间变化的相位函数；判断变化量是否对应于需要刻蚀的厚度。本解决了现有技术中当刻蚀速率的不稳定性较强时，信号将会超出傅里叶条纹分析法的有效分析范围，影响IEP终点判断的准确性的技术问题，且在刻蚀速率不稳定场景下通过特定波长时序信号的分析获取实时刻蚀厚度，保证刻蚀工艺的良率。

公开(公告)号：CN117419893A

公开(公告)日：2024-01-19

申请号：CN202311291632.3

申请日：2023-10-08

Applicant: 上海复享光学股份有限公司

Inventor： 赵景怡 ,  石磊 ,  赵茂雄 ,  叶俊燚 ,  卢国鹏 ,  殷海玮 ,  姜昂 ,  李同宇

IPC: G01M11/02 ,  G06F17/14

Abstract: 本发明涉及一种二维光栅周期测量方法及系统，该方法包括步骤：S1、利用傅里叶面成像设备对一维、二维光栅分别进行测量并对应得到第一、第二衍射图像；S2、从第一衍射图像中提取衍射光斑的像素；S3、计算一维光栅的衍射角正弦值，并基于该衍射角正弦值计算傅里叶面的辐射角正弦值；S4、将提取的该像素与计算的辐射角正弦值分横轴和纵轴分别进行线性拟合，得到傅里叶面的像素与辐射角正弦值的转化关系；S5、利用该转化关系将第二衍射图像中衍射光斑的像素转化为辐射角正弦值；S6、将转化的辐射角正弦值代入光沿样品面的动量守恒方程中，计算得到倒格矢的大小，进而计算出该二维光栅的周期。本发明可以更高效、更精确地测量二维光栅的周期。

公开(公告)号：CN116718603A

公开(公告)日：2023-09-08

申请号：CN202310808583.X

申请日：2023-07-03

Applicant: 上海复享光学股份有限公司

Inventor： 叶俊燚 ,  石磊 ,  赵茂雄 ,  卢国鹏 ,  隆军 ,  殷海玮

IPC: G01N21/88 ,  G01N21/01

Abstract: 本发明公开了一种衍射成像缺陷检测系统及其检测方法，基于大角度暗场衍射显微成像和明场显微成像技术，能同时获得明场显微图像和暗场衍射显微图像，对大面积衍射光波导面结构信息进行多角度的快速获取，再配以相应的图像处理算法进而完成缺陷的自动化定位，并判断缺陷类型，有助于衍射光波导缺陷检测的工业化应用，提高检测效率。本发明解决了衍射光波导缺陷检测的传统检测方法对环境要求苛刻、对算法要求复杂、成本高、不适宜大规模工业化推广应用的问题。