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公开(公告)号：CN112379472B
公开(公告)日：2022-08-16
申请号：CN202011269856.0
申请日：2020-11-13
Applicant: 上海卫星装备研究所
Abstract: 本发明涉及一种低吸辐比的光学太阳反射镜，属于航天器热控薄膜技术领域。本发明公开了一种低吸辐比的光学太阳反射镜及其制备方法。在本案中，采用了厚度0.05‑0.20mm的铈玻璃或者石英玻璃基片制备光学太阳反射镜，其中厚度0.10mm甚至更薄的铈玻璃基片不止实现了轻量化，同时通过增强增韧，玻璃基片具有一定柔性，可解决曲面散热面热控实施的问题，并通过基片加热、离子轰击、辅助沉积、高温退火等一系列改进方法，研制出一种低吸辐比的光学太阳反射镜，充分适应航天器研制走向低成本、短周期、高集成、高可靠之路的发展趋势。
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公开(公告)号：CN114249268A
公开(公告)日：2022-03-29
申请号：CN202111424630.8
申请日：2021-11-26
Applicant: 上海卫星装备研究所
Abstract: 本发明提供了航天器空间环境模拟设备技术领域一种用于空间环境模拟试验的辅助升降平台，包括上框架、下框架以及剪叉机构，剪叉机构的两端分别设置在上框架与下框架上；下框架上贯穿设置有丝杠件，且丝杠件的一端穿设过剪叉机构设置在下框架内壁上；丝杠件设置在下框架外的一端设有摇把；还包括平台锁定耦合器，平台锁定耦合器包括耦合器外齿、耦合器内齿以及推拉组件，推拉组件带动耦合器内齿与耦合器外齿分离设置，丝杠件通过摇把的转动而转动设置，剪叉机构通过丝杠件的转动而升降设置，上框架与下框架通过剪叉机构的升降而升降设置。本发明满足空间环境模拟试验中光学试验的无油的需求，保证了平台在任意高度自锁停留。
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公开(公告)号：CN112379472A
公开(公告)日：2021-02-19
申请号：CN202011269856.0
申请日：2020-11-13
Applicant: 上海卫星装备研究所
Abstract: 本发明涉及一种低吸辐比的光学太阳反射镜，属于航天器热控薄膜技术领域。本发明公开了一种低吸辐比的光学太阳反射镜及其制备方法。在本案中，采用了厚度0.05‑0.20mm的铈玻璃或者石英玻璃基片制备光学太阳反射镜，其中厚度0.10mm甚至更薄的铈玻璃基片不止实现了轻量化，同时通过增强增韧，玻璃基片具有一定柔性，可解决曲面散热面热控实施的问题，并通过基片加热、离子轰击、辅助沉积、高温退火等一系列改进方法，研制出一种低吸辐比的光学太阳反射镜，充分适应航天器研制走向低成本、短周期、高集成、高可靠之路的发展趋势。
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公开(公告)号：CN114249268B
公开(公告)日：2024-03-29
申请号：CN202111424630.8
申请日：2021-11-26
Applicant: 上海卫星装备研究所
Abstract: 本发明提供了航天器空间环境模拟设备技术领域一种用于空间环境模拟试验的辅助升降平台，包括上框架、下框架以及剪叉机构，剪叉机构的两端分别设置在上框架与下框架上；下框架上贯穿设置有丝杠件，且丝杠件的一端穿设过剪叉机构设置在下框架内壁上；丝杠件设置在下框架外的一端设有摇把；还包括平台锁定耦合器，平台锁定耦合器包括耦合器外齿、耦合器内齿以及推拉组件，推拉组件带动耦合器内齿与耦合器外齿分离设置，丝杠件通过摇把的转动而转动设置，剪叉机构通过丝杠件的转动而升降设置，上框架与下框架通过剪叉机构的升降而升降设置。本发明满足空间环境模拟试验中光学试验的无油的需求，保证了平台在任意高度自锁停留。
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公开(公告)号：CN110819941A
公开(公告)日：2020-02-21
申请号：CN201911107873.1
申请日：2019-11-13
Applicant: 上海卫星装备研究所
Abstract: 本发明提供了一种基于辅助沉积的膜层改性方法及系统，包括：预处理步骤：在沉积Ag膜之前，对玻璃基底采用离子源清洗；辅助沉积步骤：在沉积Ag膜过程中，通过调节所述离子源的功率、工作气体通量以及公自转速度来改变到达玻璃基底表面的离子能量和离子密度。本发明的膜层改性方法和系统可用于提高玻璃基底表面原子活性，消除结合不牢的沉积原子，促进表面原子移动与扩散，扩展玻璃基底与Ag的共混层，最终达到提高Ag膜致密度及其与玻璃基底附着力的目的。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN114293153B
公开(公告)日：2024-01-09
申请号：CN202111520386.5
申请日：2021-12-13
Applicant: 上海卫星装备研究所
Abstract: 本发明提供了一种涉及真空镀膜技术领域的多弧离子镀膜设备，包括放置在壳体内部的真空室、抽气组件、冷却器、PLC控制器以及电源；电源电连接PLC控制器，PLC控制器通过线路分别连接真空室抽气组件以及冷却器，抽气组件连接真空室、并对真空室进行真空处理，冷却器通过水管分别连接真空室和抽气组件，使真空室和抽气组件进行冷却；真空室包括框架、面板、电弧离子源装置以及转架装置，多块面板依次连接于框架四周，多个电弧离子源装置连接于面板内壁上，框架内部连接有转架装置，通过转架装置进行样品移动。本发明将“电、气、水”三方面的设备仪器分割开来，做到易于管理、调整检修，同时在硬件和软件设计方面，提高了设备使用的可靠性和易用性。
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公开(公告)号：CN112501559A
公开(公告)日：2021-03-16
申请号：CN202011264134.6
申请日：2020-11-12
Applicant: 上海卫星装备研究所
Abstract: 本发明公开了一种穿孔型防静电聚酰亚胺薄膜镀铝二次表面镜制备方法；该方法为先在聚酰亚胺薄膜基材上制孔，再在带孔聚酰亚胺薄膜基材的一个面上真空蒸发卷绕镀金属铝反射层，最后在镀铝带孔聚酰亚胺薄膜基材的另一面磁控溅射卷绕镀ITO导电层。这样制备的ITO导电层在孔内可以与金属铝反射层叠加起来形成“电连接器”，即使ITO导电层出现局部断裂，亦可通过孔内电连接器连通金属铝反射层来消除静电，从而消除因ITO导电层断裂而无法消除静电的隐患。
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公开(公告)号：CN114293153A
公开(公告)日：2022-04-08
申请号：CN202111520386.5
申请日：2021-12-13
Applicant: 上海卫星装备研究所
Abstract: 本发明提供了一种涉及真空镀膜技术领域的多弧离子镀膜设备，包括放置在壳体内部的真空室、抽气组件、冷却器、PLC控制器以及电源；电源电连接PLC控制器，PLC控制器通过线路分别连接真空室抽气组件以及冷却器，抽气组件连接真空室、并对真空室进行真空处理，冷却器通过水管分别连接真空室和抽气组件，使真空室和抽气组件进行冷却；真空室包括框架、面板、电弧离子源装置以及转架装置，多块面板依次连接于框架四周，多个电弧离子源装置连接于面板内壁上，框架内部连接有转架装置，通过转架装置进行样品移动。本发明将“电、气、水”三方面的设备仪器分割开来，做到易于管理、调整检修，同时在硬件和软件设计方面，提高了设备使用的可靠性和易用性。
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公开(公告)号：CN112501559B
公开(公告)日：2022-03-29
申请号：CN202011264134.6
申请日：2020-11-12
Applicant: 上海卫星装备研究所
Abstract: 本发明公开了一种穿孔型防静电聚酰亚胺薄膜镀铝二次表面镜制备方法；该方法为先在聚酰亚胺薄膜基材上制孔，再在带孔聚酰亚胺薄膜基材的一个面上真空蒸发卷绕镀金属铝反射层，最后在镀铝带孔聚酰亚胺薄膜基材的另一面磁控溅射卷绕镀ITO导电层。这样制备的ITO导电层在孔内可以与金属铝反射层叠加起来形成“电连接器”，即使ITO导电层出现局部断裂，亦可通过孔内电连接器连通金属铝反射层来消除静电，从而消除因ITO导电层断裂而无法消除静电的隐患。
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公开(公告)号：CN112048705A
公开(公告)日：2020-12-08
申请号：CN202010832890.8
申请日：2020-08-18
Applicant: 上海卫星装备研究所
IPC: C23C14/35
Abstract: 本发明提供了一种具有自调节磁场结构的磁控溅射靶，包括：靶体、磁场结构、靶材和水冷结构，靶体与靶材紧固连接，靶材与水冷结构紧固连接；磁场结构以磁控溅射靶轴心线作轴对称设置于靶材的下方；磁场结构包括电磁线圈，通过改变电磁线圈的电流值，能够改变磁控溅射靶的磁场分布和磁场强度；水冷结构包括水冷背板，水冷背板上设置的进水通道和出水通道呈间隔分布。本发明通过改变电磁圈的电流值，能够改变磁控溅射靶的磁场分布和磁场强度，形成有效的靶面水平磁场，满足不同靶材高度、不同靶材材料、不同靶面溅射区域等情况的使用。
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