基于SSPPs结构的高效率端射天线

    公开(公告)号:CN109888484B

    公开(公告)日:2020-09-04

    申请号:CN201910092382.8

    申请日:2019-01-30

    Abstract: 本发明提供了一种基于SSPPs结构的高效率端射天线,包括:介质板(8)、微带传输线(5)、SSPPs结构(2)、SMA接头(1);所述SSPPs结构(2)设置于介质板(8)的顶面;微带传输线(5)设置于介质板(8)的底面;SMA接头(1)设置于介质板(8)的短边一侧的中心。本发明的主体为低剖面贴片天线,结构简单容易加工;本发明频带宽,效率高,天线定向性好。本发明的天线采用了SSPPs结构,可以降低天线之间的耦合,减小了整个系统的体积。

    基于人工表面等离激元结构的双模态天线

    公开(公告)号:CN110838618B

    公开(公告)日:2021-10-08

    申请号:CN201911120631.6

    申请日:2019-11-15

    Abstract: 本发明提供了一种基于人工表面等离激元结构的双模态天线,包括:馈电结构、螺旋状的SSPPs传输与辐射结构、SMA接头;所述螺旋状的SSPPs传输与辐射结构由多条S形结构沿一直线等间距平行排列,并在平行面内依次等角度共轴旋转排列而成,每个相邻的S形结构间的旋转角度为18°,每个相邻的S形结构间的距离相等;所述馈电结构包括两种形式,当天线工作在端射模式时,馈电结构作为印刷单极子,位于螺旋状的SSPPs传输与辐射结构的一端;当天线工作在侧射模式时,馈电结构采用共面波导渐变到微带线的结构;本发明通过旋转的SSPPs结构实现了端射圆极化;本发明采用了SSPPs结构,提高了天线增益。

    基于SSPPs结构的高效率端射天线

    公开(公告)号:CN109888484A

    公开(公告)日:2019-06-14

    申请号:CN201910092382.8

    申请日:2019-01-30

    Abstract: 本发明提供了一种基于SSPPs结构的高效率端射天线,包括:介质板(8)、微带传输线(5)、SSPPs结构(2)、SMA接头(1);所述SSPPs结构(2)设置于介质板(8)的顶面;微带传输线(5)设置于介质板(8)的底面;SMA接头(1)设置于介质板(8)的短边一侧的中心。本发明的主体为低剖面贴片天线,结构简单容易加工;本发明频带宽,效率高,天线定向性好。本发明的天线采用了SSPPs结构,可以降低天线之间的耦合,减小了整个系统的体积。

    基于人工表面等离激元结构的双模态天线

    公开(公告)号:CN110838618A

    公开(公告)日:2020-02-25

    申请号:CN201911120631.6

    申请日:2019-11-15

    Abstract: 本发明提供了一种基于人工表面等离激元结构的双模态天线,包括:馈电结构、螺旋状的SSPPs传输与辐射结构、SMA接头;所述螺旋状的SSPPs传输与辐射结构由多条S形结构沿一直线等间距平行排列,并在平行面内依次等角度共轴旋转排列而成,每个相邻的S形结构间的旋转角度为18°,每个相邻的S形结构间的距离相等;所述馈电结构包括两种形式,当天线工作在端射模式时,馈电结构作为印刷单极子,位于螺旋状的SSPPs传输与辐射结构的一端;当天线工作在侧射模式时,馈电结构采用共面波导渐变到微带线的结构;本发明通过旋转的SSPPs结构实现了端射圆极化;本发明采用了SSPPs结构,提高了天线增益。

    一种高精度均匀应力场薄膜双向张拉控制装置

    公开(公告)号:CN109933101B

    公开(公告)日:2021-10-22

    申请号:CN201910197496.9

    申请日:2019-03-15

    Abstract: 本发明公开了一种高精度均匀应力场薄膜双向张拉控制装置,包括支撑模组、张拉控制模组和薄膜夹持模组;其中,所述张拉控制模组底部固定安装于所述支撑模组顶部,所述薄膜夹持模组底部固定安装于所述张拉控制模组顶部;所述支撑模组被配置为固定和支撑所述张拉控制模组,所述张拉控制模组被配置为张拉薄膜和检测薄膜的应力。本发明采用双层结构设计模式,减小整体装置尺寸,扩大薄膜试件在整体结构尺寸占比,以便放置于真空装置中进行模态测试,合理设计张拉控制装置并配置拉压传感器,可直接测量薄膜试件应力数值,提高模态测试精度。

    一种高精度均匀应力场薄膜双向张拉控制装置

    公开(公告)号:CN109933101A

    公开(公告)日:2019-06-25

    申请号:CN201910197496.9

    申请日:2019-03-15

    Abstract: 本发明公开了一种高精度均匀应力场薄膜双向张拉控制装置,包括支撑模组、张拉控制模组和薄膜夹持模组;其中,所述张拉控制模组底部固定安装于所述支撑模组顶部,所述薄膜夹持模组底部固定安装于所述张拉控制模组顶部;所述支撑模组被配置为固定和支撑所述张拉控制模组,所述张拉控制模组被配置为张拉薄膜和检测薄膜的应力。本发明采用双层结构设计模式,减小整体装置尺寸,扩大薄膜试件在整体结构尺寸占比,以便放置于真空装置中进行模态测试,合理设计张拉控制装置并配置拉压传感器,可直接测量薄膜试件应力数值,提高模态测试精度。

    溶液中金属纳米粒子计数器

    公开(公告)号:CN101581655A

    公开(公告)日:2009-11-18

    申请号:CN200910053758.0

    申请日:2009-06-25

    Inventor: 任吉存 谢超

    Abstract: 本发明涉及一种溶液中金属纳米粒子计数器,用于溶液中金属纳米粒子相对浓度的测定。计数器由激光器、中性衰减片、扩束镜、盖玻片或样品池、显微镜物镜、双色镜、透镜、针孔、单光子检测器、数据采集卡及计算机组成。样品溶液置于盖玻片或样品池上,激光照射溶液中的金属纳米粒子,产生的散射光经物镜收集后通过透镜聚焦到针孔,针孔与单光子检测器耦合在一起。单光子检测器产生的信号经数据采集卡,由计算机输出。本发明的工作原理是基于一个很小的激光共焦照射微区内(~10-15升),溶液中的金属粒子由于布朗运动进入或离开该微区时将产生光子的爆发,光子爆发数目与其浓度成正比。本发明可用于生物医学、化学和物理学等领域的研究和临床检测。

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