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公开(公告)号:CN1292306C
公开(公告)日:2006-12-27
申请号:CN200410089275.3
申请日:2004-12-09
Applicant: 上海交通大学
IPC: G03F7/00 , H01L21/027
Abstract: 一种真空负压纳米压印装置。用于纳米加工技术技术领域。本发明主体是一个真空负压工作室,真空负压工作室底部密封,顶部有圆形石英片窗口,而圆形石英片窗口与真空负压工作室通过两个小法兰、一个大法兰、环形橡胶柔性绞链圆片、环形橡胶柔性衬垫圆片密封连接。圆形石英片和环形橡胶柔性绞链圆片密封连接,夹紧在二个小法兰、环形橡胶柔性衬垫圆片和环形橡胶柔性绞链圆片之间,工作室上盖和工作室底座通过密封圈密封连接;真空计和抽气管分别与抽气均衡环通过密封管道密封连接;真空闸门密封连接在抽气管上;减压闸门通过密封管道与真空负压工作室密封连接。本发明极大降低了设备的成本。在亚微米结构的制造具有广泛的应用。
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公开(公告)号:CN1300635C
公开(公告)日:2007-02-14
申请号:CN200410089276.8
申请日:2004-12-09
Applicant: 上海交通大学
IPC: G03F7/00 , H01L21/027
Abstract: 一种用于纳米加工技术技术领域的真空负压纳米压印方法。具体步骤如下:(1)真空负压发生方法,通过真空负压工作室产生真空负压;(2)真空负压传递方法,真空负压工作室的真空达到负压;(3)真空负压柔性传递方法,通过柔性绞链密封连接;(4)压强倍增方法,圆形石英片同心紧密结合;(5)压力施加方法,通过压印基板与工作台之间的均匀的聚四氟乙烯弹性垫,使得模仁和基板两面同时施加平衡、均匀、与表面垂直的压力,完成纳米压印模仁和基板紧密压合工艺过程。本发明够根据紫外敏感胶和其它纳米压印光刻胶的黏度实现不同压强倍增,较高精密压力平衡控制机械方法极大降低了设备的成本。在纳米结构的制造领域具有广泛的应用。
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公开(公告)号:CN1624585A
公开(公告)日:2005-06-08
申请号:CN200410089275.3
申请日:2004-12-09
Applicant: 上海交通大学
IPC: G03F7/00 , H01L21/027
Abstract: 一种真空负压纳米压印装置。用于纳米加工技术技术领域。本发明主体是一个真空负压工作室,真空负压工作室底部密封,顶部有圆形石英片窗口,而圆形石英片窗口与真空负压工作室通过两个小法兰、一个大法兰、环形橡胶柔性绞链圆片、环形橡胶柔性衬垫圆片密封连接。圆形石英片和环形橡胶柔性绞链圆片密封连接,夹紧在二个小法兰、环形橡胶柔性衬垫圆片和环形橡胶柔性绞链圆片之间,工作室上盖和工作室底座通过密封圈密封连接;真空计和抽气管分别与抽气均衡环通过密封管道密封连接;真空闸门密封连接在抽气管上;减压闸门通过密封管道与真空负压工作室密封连接。本发明极大降低了设备的成本。在亚微米结构的制造具有广泛的应用。
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公开(公告)号:CN1624586A
公开(公告)日:2005-06-08
申请号:CN200410089276.8
申请日:2004-12-09
Applicant: 上海交通大学
IPC: G03F7/00 , H01L21/027
Abstract: 一种用于纳米加工技术技术领域的真空负压纳米压印方法。具体步骤如下:(1)真空负压发生方法,通过真空负压工作室产生真空负压;(2)真空负压传递方法,真空负压工作室的真空达到负压;(3)真空负压柔性传递方法,通过柔性绞链密封连接;(4)压强倍增方法,圆形石英片同心紧密结合;(5)压力施加方法,通过压印基板与工作台之间的均匀的聚四氟乙烯弹性垫,使得模仁和基板两面同时施加平衡、均匀、与表面垂直的压力,完成纳米压印模仁和基板紧密压合工艺过程。本发明够根据紫外敏感胶和其它纳米压印光刻胶的黏度实现不同压强倍增,较高精密压力平衡控制机械方法极大降低了设备的成本。在纳米结构的制造领域具有广泛的应用。
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