公开(公告)号：CN106896546A

公开(公告)日：2017-06-27

申请号：CN201710140201.5

申请日：2017-03-10

Applicant: 上海交通大学

Inventor： 孙长俐 ,  陆建钢 ,  张彬 ,  刘诗雨 ,  查升毫

IPC: G02F1/133

Abstract: 本发明公开了一种提高向列相液晶光调制器件衍射效率的方法，包括以下步骤：步骤一、将向列相液晶材料灌入液晶空间光调制器件中；步骤二、搭建相位深度测量系统，进行相位深度测量，电场加到公共电极和像素电极层两端，记录下相位深度‑灰度曲线；步骤三、搭建衍射效率测量系统，进行光束偏转衍射效率测量；步骤四、调制光调制器件，对其加载调制灰度图，依据相位深度‑灰度曲线对其进行调制，形成理想折射率形貌曲线。本发明的一种提高向列相液晶光调制器件衍射效率的方法，可在近红外波段达到6π高相位深度调制，能够提高向列相液晶光调制器件衍射效率，增大光调制器件的最大光束偏转角度。

公开(公告)号：CN106896546B

公开(公告)日：2019-12-06

申请号：CN201710140201.5

申请日：2017-03-10

Applicant: 上海交通大学

Inventor： 孙长俐 ,  陆建钢 ,  张彬 ,  刘诗雨 ,  查升毫

IPC: G02F1/133

Abstract: 本发明公开了一种提高向列相液晶光调制器件衍射效率的方法，包括以下步骤：步骤一、将向列相液晶材料灌入液晶空间光调制器件中；步骤二、搭建相位深度测量系统，进行相位深度测量，电场加到公共电极和像素电极层两端，记录下相位深度‑灰度曲线；步骤三、搭建衍射效率测量系统，进行光束偏转衍射效率测量；步骤四、调制光调制器件，对其加载调制灰度图，依据相位深度‑灰度曲线对其进行调制，形成理想折射率形貌曲线。本发明的一种提高向列相液晶光调制器件衍射效率的方法，可在近红外波段达到6π高相位深度调制，能够提高向列相液晶光调制器件衍射效率，增大光调制器件的最大光束偏转角度。