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公开(公告)号:CN107246283A
公开(公告)日:2017-10-13
申请号:CN201710571467.5
申请日:2017-07-13
Applicant: 上海交通大学
CPC classification number: F01D5/186 , F04D29/667
Abstract: 本发明公开了一种用于冷却叶片的凹陷‑气膜孔冷却结构,包括设置在冷却叶片的内壁的凹陷和贯穿冷却叶片的气膜孔,气膜孔具有入口,入口位于凹陷处。本发明还公开了一种气膜冷却装置,包括冷却叶片、一个或多个凹陷,以及一个或多个气膜孔,其中凹陷设置在冷却叶片的内壁上,气膜孔贯穿冷却叶片,气膜孔具有入口,全部的气膜孔的入口位于凹陷处;或者一部分气膜孔的入口位于凹陷处,另一部分气膜孔的入口位于冷却叶片的内壁面上除凹陷以外的区域;或者多个气膜孔的入口位于一个凹陷处。本发明的凹陷‑气膜冷却结构能够改善气膜孔与冷却叶片内部流道之间的匹配,从而改善气膜孔入口和气膜孔内的流动状态、提高冷却叶片外部壁面的气膜冷却性能。
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