公开(公告)号：CN1209217C

公开(公告)日：2005-07-06

申请号：CN03117066.8

申请日：2003-05-22

Applicant: 上海交通大学

Inventor： 张豪 ,  张荻 ,  张捷 ,  宋立

IPC: B22F3/115 ,  C23C4/12

Abstract: 一种控制往复喷射成形工艺属于合金及复合材料领域。方法如下：合金熔体在重力作用下进入雾化区域，采用非限制式、非扫描、二级雾化器，通过雾化器将合金熔体粉碎，形成稳定而密集的液滴喷射流，连续沉积的合金液滴充分熔合，快速凝固，使液滴带电并在电场中飞向基底，精确控制沉积室内的气压，未粘结的粉尘通过排风口及时排除，在线控制工艺参数，始终满足最佳沉积状态。本发明工艺解决了背景技术中存在的问题，获得的有益效果是：沉积坯凝固速率达104～K/s，平均晶粒度0.9～20μm，同时，致密度高、层界面缺陷少，材料收得率大幅度提高，适宜制备大规格的沉积坯。

公开(公告)号：CN1472025A

公开(公告)日：2004-02-04

申请号：CN03117066.8

申请日：2003-05-22

Applicant: 上海交通大学

Inventor： 张豪 ,  张荻 ,  张捷 ,  宋立

IPC: B22F3/115

Abstract: 一种控制往复喷射成形工艺属于合金及复合材料领域。方法如下：合金熔体在重力作用下进入雾化区域，采用非限制式、非扫描、二级雾化器，通过雾化器将合金熔体粉碎，形成稳定而密集的液滴喷射流，连续沉积的合金液滴充分熔合，快速凝固，使液滴带电并在电场中飞向基底，精确控制沉积室内的气压，未粘结的粉尘通过排风口及时排除，在线控制工艺参数，始终满足最佳沉积状态。本发明工艺解决了背景技术中存在的问题，获得的有益效果是：沉积坯凝固速率达104～K/s，平均晶粒度0.9～20μm，同时，致密度高、层界面缺陷少，材料收得率大幅度提高，适宜制备大规格的沉积坯。