真空蒸镀装置
    1.
    发明授权

    公开(公告)号:CN104508172B

    公开(公告)日:2016-10-12

    申请号:CN201280075029.5

    申请日:2012-11-13

    Inventor: 重冈伸之

    CPC classification number: C23C14/24 C23C14/546

    Abstract: 本发明提供一种真空蒸镀装置。本发明的真空蒸镀装置具备:蒸发源,其朝向配置有靶的位置配置;蒸发源罩,其包围蒸发源,具有放出蒸镀材料的放出口;防粘板,其配置于蒸发源罩的周围;膜厚传感器,其检测从蒸发源放出的蒸镀材料形成的膜厚;热反射抑制单元,其设置于再反射且能够照射到膜厚传感器的位置,抑制能够照射到膜厚传感器的热。

    真空蒸镀装置
    2.
    发明公开

    公开(公告)号:CN104508172A

    公开(公告)日:2015-04-08

    申请号:CN201280075029.5

    申请日:2012-11-13

    Inventor: 重冈伸之

    CPC classification number: C23C14/24 C23C14/546

    Abstract: 本发明提供一种真空蒸镀装置。本发明的真空蒸镀装置具备:蒸发源,其朝向配置有靶的位置配置;蒸发源罩,其包围蒸发源,具有放出蒸镀材料的放出口;防粘板,其配置于蒸发源罩的周围;膜厚传感器,其检测从蒸发源放出的蒸镀材料形成的膜厚;热反射抑制单元,其设置于再反射且能够照射到膜厚传感器的位置,抑制能够照射到膜厚传感器的热。

Patent Agency Ranking