公开(公告)号：CN101981223B

公开(公告)日：2013-05-22

申请号：CN200980111673.1

申请日：2009-09-24

Applicant: 三菱重工业株式会社

Inventor： 平野竜也 ,  小林敏郎

IPC: C23C14/24

CPC classification number: C23C14/243 ,  C23C14/12

Abstract: 本发明提供一种真空蒸镀装置。该真空蒸镀装置包括：能够收容从外部搬入的被蒸镀体(B)的真空室(1)；设置在所述真空室(1)内并收容蒸镀材料(M)的坩埚(2)；加热所述坩埚(2)并使所述蒸镀材料(M)气化的加热源(3)；分散配置在坩埚(2)的底部(2c)并支承坩埚(2)，并且在坩埚(2)与真空室(1)的底部(1a)之间进行传热的多个支承部(5)。通过该真空蒸镀装置，能够实现温度分布的均一化，并能够降低材料的多余的填充。

公开(公告)号：CN101981223A

公开(公告)日：2011-02-23

申请号：CN200980111673.1

申请日：2009-09-24

Applicant: 三菱重工业株式会社

Inventor： 平野竜也 ,  小林敏郎

IPC: C23C14/24

CPC classification number: C23C14/243 ,  C23C14/12

Abstract: 本发明提供一种真空蒸镀装置。该真空蒸镀装置包括：能够收容从外部搬入的被蒸镀体(B)的真空室(1)；设置在所述真空室(1)内并收容蒸镀材料(M)的坩埚(2)；加热所述坩埚(2)并使所述蒸镀材料(M)气化的加热源(3)；分散配置在坩埚(2)的底部(2c)并支承坩埚(2)，并且在坩埚(2)与真空室(1)的底部(1a)之间进行传热的多个支承部(5)。通过该真空蒸镀装置，能够实现温度分布的均一化，并能够降低材料的多余的填充。