公开(公告)号：CN103911159B

公开(公告)日：2019-09-27

申请号：CN201310713080.0

申请日：2013-12-20

Applicant: 三菱瓦斯化学株式会社

Inventor： 竹内秀范 ,  夕部邦夫 ,  冈部哲 ,  臼井麻里

IPC: C09K13/06 ,  H01L21/306

Abstract: 本发明涉及至少包含铟和镓的氧化物的蚀刻液以及蚀刻方法，其能够适用于包含铟、镓和氧的氧化物或者包含铟、镓、锌和氧的氧化物等至少包含铟和镓的氧化物的蚀刻中。根据本发明优选的方式，通过使用包含硫酸或其盐、以及羧酸(其中，除了草酸以外)或其盐的蚀刻液，在至少包含铟和镓的氧化物的蚀刻中，具有合适的蚀刻速率且残渣去除性也良好，对于布线材料的腐蚀性也小，进而即便蚀刻液中溶解的氧化物的浓度成为高浓度，也不产生析出物，并且能够维持合适的蚀刻速率。

公开(公告)号：CN103911159A

公开(公告)日：2014-07-09

申请号：CN201310713080.0

申请日：2013-12-20

Applicant: 三菱瓦斯化学株式会社

Inventor： 竹内秀范 ,  夕部邦夫 ,  冈部哲 ,  臼井麻里

IPC: C09K13/06 ,  H01L21/306

Abstract: 本发明涉及至少包含铟和镓的氧化物的蚀刻液以及蚀刻方法，其能够适用于包含铟、镓和氧的氧化物或者包含铟、镓、锌和氧的氧化物等至少包含铟和镓的氧化物的蚀刻中。根据本发明优选的方式，通过使用包含硫酸或其盐、以及羧酸(其中，除了草酸以外)或其盐的蚀刻液，在至少包含铟和镓的氧化物的蚀刻中，具有合适的蚀刻速率且残渣去除性也良好，对于布线材料的腐蚀性也小，进而即便蚀刻液中溶解的氧化物的浓度成为高浓度，也不产生析出物，并且能够维持合适的蚀刻速率。