公开(公告)号：CN115989217A

公开(公告)日：2023-04-18

申请号：CN202180053277.9

申请日：2021-09-10

Applicant: 三菱瓦斯化学株式会社

Inventor： 今川阳介 ,  竹村纮平 ,  杉原良介 ,  佐渡万里子

IPC: C07C321/26

Abstract: 提供可得到高折射率且耐热性优异的光学材料的组合物。一种组合物，其包含：下述式(1)所示的化合物(a)和1,2,3,5,6‑五硫杂环庚烷(b)。上述式中，Ar表示芳香环，m表示2～8的整数，n表示0～6的整数，其中，m+n为构成芳香环的碳数以下，R1分别独立地表示烷硫基、环氧烷硫基、硫醇基、卤素基、羟基、二烷基硫代氨基甲酰基或二烷基氨基甲酰基硫基。

公开(公告)号：CN110198969A

公开(公告)日：2019-09-03

申请号：CN201880007583.7

申请日：2018-02-06

Applicant: 三菱瓦斯化学株式会社

Inventor： 西森庆彦 ,  今川阳介 ,  竹村纮平 ,  堀越裕 ,  山本良亮

IPC: C08G75/08 ,  C08L81/02 ,  G02B1/04

Abstract: 提供：能设计出具有广泛的物性的光学材料的光学材料用组合物。本发明的光学材料用组合物含有：下述式(1)所示的化合物(A)、1,2,3,5,6-五硫杂环庚烷(b)、和根据需要的下述式(2)所示的化合物(B)，化合物(B)的含量相对于组合物总量为0～30质量％。(式中，m表示0～4的整数，n表示0～2的整数。)

公开(公告)号：CN103282399B

公开(公告)日：2015-08-19

申请号：CN201180063057.0

申请日：2011-11-07

Applicant: 三菱瓦斯化学株式会社

Inventor： 竹村纮平 ,  堀越裕

IPC: C08G18/24 ,  G02B1/04

CPC classification number: C08G75/00 ,  C08G18/242 ,  C08G18/3876 ,  G02B1/04 ,  C08L75/04 ,  C08L81/00

Abstract: 本发明涉及一种光学材料用组合物，其能抑制称为条纹的聚合不均匀的出现，特别是在具有尖锐曲线的高倍透镜中的条纹的出现。更具体地，涉及一种光学材料用组合物，包含：其中二氯二丁基锡与三氯单丁基锡的质量比为97.0/3.0至100.0/0.0的聚合催化剂、多硫醇化合物和多异(硫)氰酸酯化合物。

公开(公告)号：CN103282399A

公开(公告)日：2013-09-04

申请号：CN201180063057.0

申请日：2011-11-07

Applicant: 三菱瓦斯化学株式会社

Inventor： 竹村纮平 ,  堀越裕

IPC: C08G18/24 ,  G02B1/04

CPC classification number: C08G75/00 ,  C08G18/242 ,  C08G18/3876 ,  G02B1/04 ,  C08L75/04 ,  C08L81/00

Abstract: 本发明涉及一种光学材料用组合物，其能抑制称为条纹的聚合不均匀的出现，特别是在具有尖锐曲线的高倍透镜中的条纹的出现。更具体地，涉及一种光学材料用组合物，包含：其中二氯二丁基锡与三氯单丁基锡的质量比为97.0/3.0至100.0/0.0的聚合催化剂、多硫醇化合物和多异(硫)氰酸酯化合物。

公开(公告)号：CN115667369B

公开(公告)日：2024-04-05

申请号：CN202180037472.2

申请日：2021-05-21

Applicant: 三菱瓦斯化学株式会社

Inventor： 佐渡万里子 ,  竹村纮平 ,  堀越裕

IPC: C08G75/08 ,  G02B1/04

Abstract: 根据本发明，可以提供一种光学材料用组合物，其含有：(a)环硫化合物、(b)聚合催化剂、和(c)在α位具有卤素的酯化合物。上述(c)在α位具有卤素的酯化合物优选为选自由氯丙二酸二甲酯、氯丙二酸二乙酯、溴丙二酸二甲酯、和溴丙二酸二乙酯组成的组中的1种以上的化合物。

公开(公告)号：CN115667369A

公开(公告)日：2023-01-31

申请号：CN202180037472.2

申请日：2021-05-21

Applicant: 三菱瓦斯化学株式会社

Inventor： 佐渡万里子 ,  竹村纮平 ,  堀越裕

IPC: C08G75/08 ,  G02B1/04

Abstract: 根据本发明，可以提供一种光学材料用组合物，其含有：(a)环硫化合物、(b)聚合催化剂、和(c)在α位具有卤素的酯化合物。上述(c)在α位具有卤素的酯化合物优选为选自由氯丙二酸二甲酯、氯丙二酸二乙酯、溴丙二酸二甲酯、和溴丙二酸二乙酯组成的组中的1种以上的化合物。

公开(公告)号：CN110214157A

公开(公告)日：2019-09-06

申请号：CN201880007589.4

申请日：2018-02-06

Applicant: 三菱瓦斯化学株式会社

Inventor： 西森庆彦 ,  今川阳介 ,  竹村纮平 ,  堀越裕 ,  山本良亮

IPC: C08G75/08 ,  C08L81/02 ,  G02B1/04

Abstract: 提供：能设计出具有广泛的物性的光学材料的光学材料用组合物。本发明的光学材料用组合物为一种光学材料用组合物，其含有下述式(1)所示的化合物(A)和多硫醇(a)，且不含有1,2,3,5,6-五硫杂环庚烷(b)。

公开(公告)号：CN107531906B

公开(公告)日：2018-12-04

申请号：CN201780001197.2

申请日：2017-03-01

Applicant: 三菱瓦斯化学株式会社

Inventor： 竹村纮平 ,  青木崇

IPC: C08G75/045 ,  C07C321/08 ,  C07D331/02 ,  C08G75/08

Abstract: 根据本发明，可以提供一种多硫醇组合物，其含有：式(1)所示的多硫醇(A)和式(2)所示的硫醇化合物(B)。(式(1)中，p、q分别独立地表示1～3的整数。)(式(2)中，p、q分别独立地表示1～3的整数。)

公开(公告)号：CN107531906A

公开(公告)日：2018-01-02

申请号：CN201780001197.2

申请日：2017-03-01

Applicant: 三菱瓦斯化学株式会社

Inventor： 竹村纮平 ,  青木崇

IPC: C08G75/045 ,  C07C321/08 ,  C07D331/02 ,  C08G75/08

CPC classification number: C07C323/16 ,  C07C321/08 ,  C07D331/02 ,  C08G75/02 ,  C08G75/045 ,  C08G75/08 ,  C08G75/12 ,  C08L75/00 ,  G02B1/041 ,  C08L81/02

Abstract: 根据本发明，可以提供一种多硫醇组合物，其含有：式(1)所示的多硫醇(A)和式(2)所示的硫醇化合物(B)。(式(1)中，p、q分别独立地表示1～3的整数。)(式(2)中，p、q分别独立地表示1～3的整数。)

公开(公告)号：CN104169333B

公开(公告)日：2016-04-06

申请号：CN201380013664.5

申请日：2013-02-26

Applicant: 三菱瓦斯化学株式会社

Inventor： 竹村纮平 ,  冈田浩之 ,  堀越裕

IPC: C08G75/08 ,  C08G18/38 ,  G02B1/04

CPC classification number: G02B1/04 ,  C08G18/3855 ,  C08G18/3868 ,  C08G18/3874 ,  C08G18/3876 ,  C08G18/7642 ,  C08G75/08 ,  C08K5/053 ,  C08K5/3475 ,  G02B1/00 ,  C08L75/00

Abstract: 本发明为包含规定的化合物(a)、化合物(b)、化合物(c)、化合物(d)、以及化合物(e)的光学材料的制造方法，提供抑制透镜的剥痕残留的缺陷产生的制备方法。通过经历下述第1工序～第5工序从而抑制剥痕残留的缺陷。第1工序：使化合物(b)溶解于化合物(a)中而得到第1液的工序。第2工序：将化合物(e)添加到由第1工序得到的第1液中，混合得到不含化合物(d)的第2液的工序。第3工序：将化合物(c)添加到由第2工序得到的第2液中，得到反应混合物的工序。第4工序：将化合物(d)添加到由第3工序得到的前述反应混合物中，混合得到光学材料用树脂组合物的工序。第5工序：对由第4工序得到的光学材料用树脂组合物进行浇铸，使其聚合而得到光学材料的工序。