-
公开(公告)号：CN102448882A
公开(公告)日：2012-05-09
申请号：CN201080023329.X
申请日：2010-06-25
Applicant: 三菱化学株式会社
IPC: C01B33/037
CPC classification number: C01B33/037 , C01B33/02 , H01L31/182 , Y02E10/546 , Y02P70/521
Abstract: 本发明涉及硅的制造方法，该制造方法的特征在于，其含有下述处理过程：使含有杂质的熔融硅与熔融盐在容器内接触，使该熔融硅中的杂质与熔融盐反应，将该杂质去除到体系外。
Search Results
1
records
(took 0.017 seconds)
筛选
AND
AND
过滤
NOT
NOT
Scan to Join
