聚乙烯醇系薄膜及其制造方法、以及利用该聚乙烯醇系薄膜的偏光膜

    公开(公告)号:CN109312085B

    公开(公告)日:2022-02-01

    申请号:CN201780031812.4

    申请日:2017-05-25

    Abstract: 本发明提供能减低浸渍于水中时的聚乙烯醇系树脂的溶出量且不容易卷曲的聚乙烯醇系薄膜,及该聚乙烯醇系薄膜的制造方法,以及使用了该聚乙烯醇系薄膜的偏光膜。本发明的聚乙烯醇系薄膜的特征为:浸渍在50℃的水中1分钟时的聚乙烯醇系树脂的溶出量为900ppm/m2以下,且以下述条件A测得的短边方向的卷曲角度为135°以下。条件(A):对于具备从该聚乙烯醇系薄膜以任意方向切出的长边10cm×短边5cm的长方形的试验片以及设置于该试验片的长边方向的第1边缘部的中央的质量5g的重物的试验体,在以该试验片的长边方向的第2边缘部的中央支承而悬挂的状态下,将该试验体整体浸渍于30℃的水中10秒钟。

    聚乙烯醇系薄膜和使用其的偏光膜

    公开(公告)号:CN107531919B

    公开(公告)日:2021-10-15

    申请号:CN201680022390.X

    申请日:2016-06-23

    Abstract: 本发明为一种聚乙烯醇系薄膜,其依据ISO14577:2002在下述(1)~(3)的条件下进行纳米压痕试验时的薄膜表面的硬度为65~90MPa。因此,能够获得可以得到无显示坏点、色斑的偏光膜的聚乙烯醇系薄膜。条件(1)测定环境:25℃50%RH。条件(2)压头:Berkovich型(三角锥型、对顶角65°、ε=0.75、金刚石制)。条件(3)最大压痕深度:500nm。

    聚乙烯醇系薄膜和使用其的偏光膜

    公开(公告)号:CN113900163A

    公开(公告)日:2022-01-07

    申请号:CN202111114369.1

    申请日:2016-06-23

    Abstract: 本发明涉及一种聚乙烯醇系薄膜和使用其的偏光膜。本发明为一种聚乙烯醇系薄膜,其依据ISO14577:2002在下述(1)~(3)的条件下进行纳米压痕试验时的薄膜表面的硬度为65~90MPa。因此,能够获得可以得到无显示坏点、色斑的偏光膜的聚乙烯醇系薄膜。条件(1)测定环境:25℃50%RH。条件(2)压头:Berkovich型(三角锥型、对顶角65°、ε=0.75、金刚石制)。条件(3)最大压痕深度:500nm。

    聚乙烯醇系薄膜和偏光膜

    公开(公告)号:CN107850716B

    公开(公告)日:2021-01-08

    申请号:CN201680040993.2

    申请日:2016-06-23

    Abstract: 本发明是一种聚乙烯醇系薄膜,其为厚度5~60μm的聚乙烯醇系薄膜,在25℃的水中使用扫描型探针显微镜进行纳米压痕试验时的薄膜表面的杨氏模量为15~40MPa。因此,通过使用上述聚乙烯醇系薄膜,从而能够得到损伤极少的偏光膜,结果可以得到显示坏点少、偏光性能优异的偏光膜。

    聚乙烯醇系薄膜和使用其的偏光膜

    公开(公告)号:CN113900163B

    公开(公告)日:2025-02-25

    申请号:CN202111114369.1

    申请日:2016-06-23

    Abstract: 本发明涉及一种聚乙烯醇系薄膜和使用其的偏光膜。本发明为一种聚乙烯醇系薄膜,其依据ISO14577:2002在下述(1)~(3)的条件下进行纳米压痕试验时的薄膜表面的硬度为65~90MPa。因此,能够获得可以得到无显示坏点、色斑的偏光膜的聚乙烯醇系薄膜。条件(1)测定环境:25℃50%RH。条件(2)压头:Berkovich型(三角锥型、对顶角65°、ε=0.75、金刚石制)。条件(3)最大压痕深度:500nm。

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