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公开(公告)号：CN107922655B
公开(公告)日：2021-11-19
申请号：CN201680046478.5
申请日：2016-02-29
Applicant: 三菱化学株式会社
Abstract: 本发明提供一种图案化的金属膜叠层用膜，即使在高温高湿条件下对金属层的密合性也良好，并且，金属层不发生变色，且能够抑制在进行热处理时发生析出的低聚物析出，即使在经图案化的金属层的形状的变形、金属膜叠层用膜的图案化变得微细，图案宽度被设计得更窄，设计为配线基板的响应变得高精度化的、高灵敏度的配线基板的类型中使用时，也能够不发生因图案化不良而引起的不良状况。提供一种金属膜叠层用膜，至少在一个聚酯膜面具有涂布层，该涂布层由相对于不挥发成分含有70重量％以上交联剂的涂布液形成，满足下述式(1)。|SMD－STD|≤0.4…(1)(上述式中，SMD表示膜移动方向(MD)的收缩率(％)，STD表示与膜移动方向正交的方向(TD)的收缩率(％)，加热条件为150℃、90分钟)。
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公开(公告)号：CN119421788A
公开(公告)日：2025-02-11
申请号：CN202380049383.9
申请日：2023-07-03
Applicant: 三菱化学株式会社
Abstract: 本发明为层叠薄膜，其具备在基材薄膜的至少一面依次层叠有固化树脂层(A)及固化树脂层(B)的构成，前述固化树脂层(A)为包含(A‑a)粘结剂的固化性树脂组合物(A’)的固化物，前述固化树脂层(B)为包含(X)(甲基)丙烯酸氨基甲酸酯及(Y)具有环状硅氧烷骨架的化合物的固化性树脂组合物(B’)的固化物。根据本发明，可提出一种层叠薄膜，其实际利用上的重复弯折特性及耐擦拭性优异，且不易见到干涉条纹，抗静电性良好，进而能兼顾抗静电性与防污性，耐磨耗性也优异。
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公开(公告)号：CN111372766A
公开(公告)日：2020-07-03
申请号：CN201880075338.X
申请日：2018-11-30
Applicant: 三菱化学株式会社
Abstract: 本发明涉及一种能够向粘合膜表面转印凹凸结构的脱模膜，作为将转印有凹凸结构的粘合膜加以粘贴时的脱气性良好，由此粘合该粘合膜后能够不易观察到该凹凸结构的脱模膜，提出了下述脱模膜：前述凹凸结构具备在俯视时该凹凸结构的凸部形成不规则形状而成的构成，且凸部在前述凹凸结构的表面所占的面积比例为10～90％，且前述凹凸结构的最大高低差为0.5μm以上，前述凹凸结构中的凸部在俯视时是连续的。
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公开(公告)号：CN107922655A
公开(公告)日：2018-04-17
申请号：CN201680046478.5
申请日：2016-02-29
Applicant: 三菱化学株式会社
Abstract: 本发明提供一种图案化的金属膜叠层用膜，即使在高温高湿条件下对金属层的密合性也良好，并且，金属层不发生变色，且能够抑制在进行热处理时发生析出的低聚物析出，即使在经图案化的金属层的形状的变形、金属膜叠层用膜的图案化变得微细，图案宽度被设计得更窄，设计为配线基板的响应变得高精度化的、高灵敏度的配线基板的类型中使用时，也能够不发生因图案化不良而引起的不良状况。提供一种金属膜叠层用膜，至少在一个聚酯膜面具有涂布层，该涂布层由相对于不挥发成分含有70重量％以上交联剂的涂布液形成，满足下述式(1)。|SMD－STD|≤0.4…(1)(上述式中，SMD表示膜移动方向(MD)的收缩率(％)，STD表示与膜移动方向正交的方向(TD)的收缩率(％)，加热条件为150℃、90分钟)。
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