公开(公告)号：CN100572470C

公开(公告)日：2009-12-23

申请号：CN200580006854.X

申请日：2005-02-02

Applicant: 三菱丽阳株式会社

Inventor： 中村淳一 ,  田中基巳 ,  野村美菜 ,  石井弘树 ,  土井康敬 ,  椋田贵宽

IPC: C09D133/10 ,  C09D7/12 ,  C09D143/00 ,  C09D183/04

Abstract: 本发明提供了一种涂膜，其包含含有聚合物(I)的涂覆成分和平均粒径小于等于60nm的胶体二氧化硅(II)，相对于100质量份上述聚合物(I)，含有以固形分含量计为0.5～20质量份的胶体二氧化硅(II)，在涂膜表面露出的胶体二氧化硅的面积占涂膜表面的35%以上。根据本发明的涂膜，能提供具有优异的耐污染性并且透明性、耐候性、耐水性、涂膜延展性良好的涂膜。

公开(公告)号：CN103517951A

公开(公告)日：2014-01-15

申请号：CN201280022805.5

申请日：2012-05-11

Applicant: 三菱丽阳株式会社

Inventor： 野村美菜 ,  竹内浩史

IPC: C08L101/00 ,  B05D7/24 ,  B32B9/00 ,  C08F2/48 ,  C08J7/04 ,  C09D7/12 ,  C09D133/00 ,  C09D183/04 ,  C09D201/00

CPC classification number: C09D133/10 ,  B05D3/0209 ,  B05D3/0218 ,  B05D3/147 ,  B32B9/00 ,  C08G77/045 ,  C08G77/80 ,  C08J7/047 ,  C08J2300/22 ,  C08J2333/02 ,  C08J2483/04 ,  C09D183/06 ,  Y10T428/24942 ,  C08K5/5435 ,  C08L33/00

Abstract: 本发明通过含有下述（A）～（D）成分的活性能量射线固化性组合物：（A）硅氧烷系低聚物，其为含有式（1）所示的有机烷氧基硅烷的硅烷系单体的水解·缩合物，质均分子量为2000以下；R1aSi（OR2）4-a （1）（R1表示碳原子数为1～10的有机基团。R2表示碳原子数为1～5的烷基或碳原子数为1～4的酰基。a表示1～3的整数。）；（B）式（2）所示的含有环氧基的烷氧基硅烷；R3R4bSi（OR5）3-b （2）（R3表示含有环氧基的有机基团。R4表示碳原子数为1～10的有机基团。R5表示碳原子数为1～5的烷基或碳原子数为1～4的酰基。b表示0～2的整数。）；（C）有机系聚合物，其质均分子量为30000以上；（D）活性能量射线感应性酸产生剂，提供一种能在短时间形成具有良好的外观、耐擦伤性、耐开裂性和耐候附着性优良的固化膜的活性能量射线固化性组合物和在基材表面层积了其固化覆膜的层积体及其制造方法。

公开(公告)号：CN1926208A

公开(公告)日：2007-03-07

申请号：CN200580006854.X

申请日：2005-02-02

Applicant: 三菱丽阳株式会社

Inventor： 中村淳一 ,  田中基巳 ,  野村美菜 ,  石井弘树 ,  土井康敬 ,  椋田贵宽

IPC: C09D133/10 ,  C09D7/12 ,  C09D143/00 ,  C09D183/04

Abstract: 本发明提供了一种涂膜，其包含含有聚合物(I)的涂覆成分和平均粒径小于等于60nm的胶体二氧化硅(II)，相对于100质量份上述聚合物(I)，含有以固形分含量计为0.5～20质量份的胶体二氧化硅(II)，在涂膜表面露出的胶体二氧化硅的面积占涂膜表面的35％以上。根据本发明的涂膜，能提供具有优异的耐污染性并且透明性、耐候性、耐水性、涂膜延展性良好的涂膜。