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公开(公告)号：CN100487948C
公开(公告)日：2009-05-13
申请号：CN200510051176.0
申请日：2005-03-02
Applicant: 三洋电机株式会社
CPC classification number: C23C14/547 , C23C14/12 , C23C14/26 , C23C14/545
Abstract: 本发明揭示一种沉积膜厚度的测定方法、材料层的形成方法、沉积膜厚度的测定装置及材料层的形成装置，主要课题是在成膜时正确检测所形成的材料层的厚度。本发明是在进行真空蒸镀等的成膜室(10)的预定部分设有窗口，从发光器(26)照射会透过衬底(14)及衬底(14)上所形成的膜的光，并且由受光器(28)检测透过光。此外，发光器及受光器亦可设在成膜室内。根据来自受光器(28)的资料，检测蒸镀时由同一材料形成在衬底(14)的一部分的膜厚监控部(52)的吸光强度(亦可为萤光强度)，并通过控制装置(30)控制坩埚(18)的移动速度及加热器(20)的加热状态等而调整沉积速度，藉此在衬底上形成目标厚度的材料层。
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公开(公告)号：CN1674729A
公开(公告)日：2005-09-28
申请号：CN200510051176.0
申请日：2005-03-02
Applicant: 三洋电机株式会社
CPC classification number: C23C14/547 , C23C14/12 , C23C14/26 , C23C14/545
Abstract: 本发明揭示一种沉积膜厚度的测定方法、材料层的形成方法、沉积膜厚度的测定装置及材料层的形成装置，主要课题是在成膜时正确检测所形成的材料层的厚度。本发明是在进行真空蒸镀等的成膜室(10)的预定部分设有窗口，从发光器(26)照射会透过基板(14)及基板(14)上所形成的膜的光，并且由受光器(28)检测透过光。此外，发光器及受光器亦可设在成膜室内。根据来自受光器(28)的资料，检测蒸镀时由同一材料形成在基板(14)的一部分的膜厚监控部(52)的吸光强度(亦可为荧光强度)，并通过控制装置(30)控制坩埚(18)的移动速度及加热器(20)的加热状态等而调整沉积速度，藉此在基板上形成目标厚度的材料层。
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公开(公告)号：CN100574548C
公开(公告)日：2009-12-23
申请号：CN200510088803.8
申请日：2005-07-29
Applicant: 三洋电机株式会社
CPC classification number: H01L51/5278
Abstract: 一种有机电致发光元件，其特征在于，具有：阴极、阳极、配置在阴极和阳极之间的中间单元、配置在阴极和中间单元之间的第一发光单元、配置在阳极和中间单元之间的第二发光单元，在中间单元上设有用于从邻接阴极一侧的邻接层引出电子的电子引出层，电子引出层的最低空分子轨道(LUMO)的能级的绝对值|LUMO(A)|和邻接层的最高被占分子轨道(HOMO)的能级绝对值|HOMO(B)|存在有|HOMO(B)|-|LUMO(A)|≤1.5eV的关系，中间单元把通过从基于电子引出层的邻接层引出电子而产生的空穴提供给第一发光单元，并把所引出的电子提供给第二发光单元。
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公开(公告)号：CN1744786A
公开(公告)日：2006-03-08
申请号：CN200510088803.8
申请日：2005-07-29
Applicant: 三洋电机株式会社
CPC classification number: H01L51/5278
Abstract: 一种有机电致发光元件，其特征在于，具有：阴极、阳极、配置在阴极和阳极之间的中间单元、配置在阴极和中间单元之间的第一发光单元、配置在阳极和中间单元之间的第二发光单元，在中间单元上设有用于从邻接阴极一侧的邻接层引出电子的电子引出层，电子引出层的最低空分子轨道(LUMO)的能级的绝对值|LUMO(A)|和邻接层的最高被占分子轨道(HOMO)的能级绝对值|HOMO(B)|存在有|HOMO(B)|－|LUMO(A)|≤1.5eV的关系，中间单元把通过从基于电子引出层的邻接层引出电子而产生的空穴提供给第一发光单元，并把所引出的电子提供给第二发光单元。
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