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公开(公告)号：CN119644670A
公开(公告)日：2025-03-18
申请号：CN202410834309.4
申请日：2024-06-26
Applicant: 三星电子株式会社 , 高丽大学校产学协力团
Inventor： 高次元 , 尹孝在 , 西恒宽 , 林佳英
IPC: G03F7/004 , G03F7/20
Abstract: 本发明涉及光致抗蚀剂组合物和使用光致抗蚀剂组合物形成图案的方法。公开了光致抗蚀剂组合物，其包括有机金属化合物和溶剂，所述有机金属化合物包括：包括金属、与所述金属配位的第一杂原子和与所述金属共价键合的第二杂原子的环、和取代或稠合到所述环的芳族环。
