公开(公告)号：CN115937074A

公开(公告)日：2023-04-07

申请号：CN202210845021.8

申请日：2022-07-18

Applicant: 三星电子株式会社 ,  首尔大学校产学协力团

Inventor： 郭鲁洪 ,  金度年 ,  金基贤 ,  南润炯

IPC: G06T7/00 ,  G06V10/762 ,  G06V10/774

Abstract: 一种使用图案模型的图案检查方法包括将样本图像中的样本图案转换为训练图像、提取训练图案的特征值、基于特征值设置训练图案的特征向量、将特征向量转换为高斯向量、对高斯向量进行聚类，从而将高斯向量分类成类集，从每个聚类中选择选择向量，将与该选择向量对应的训练图案作为图案模型存储在数据库中，基于图案模型将目标图像中的目标图案转换为检查图案，以及检查该检查图案。

公开(公告)号：CN115704783A

公开(公告)日：2023-02-17

申请号：CN202210645955.7

申请日：2022-06-08

Applicant: 三星电子株式会社 ,  首尔大学校产学协力团

Inventor： 郭鲁洪 ,  金度年 ,  南润炯 ,  姜旻澈 ,  金基贤

IPC: G01N23/2251

Abstract: 提供一种通过将设计图像与SEM图像进行比较和对准来准确地检测SEM设备的测量误差的方法以及基于检测到的测量误差准确地对准SEM设备的方法。检测SEM设备的测量误差的方法包括：获取测量目标的SEM图像；对所述SEM图像以及与所述SEM图像对应的设计图像执行预处理；从所述SEM图像之中选择训练SEM图像；通过使用所述训练SEM图像以及训练设计图像执行训练，以生成所述SEM图像与所述设计图像之间的转换模型；通过使用所述转换模型将所述SEM图像转换为转换设计图像；通过将所述转换设计图像与所述设计图像进行比较和对准来提取对准坐标值；以及基于所述对准坐标值确定所述SEM设备的测量误差。