公开(公告)号：CN114070958B

公开(公告)日：2025-05-09

申请号：CN202011610102.7

申请日：2020-12-29

Applicant: 三星电子株式会社 ,  延世大学校产学协力团

Inventor： 池承勋 ,  姜文基 ,  洪淳荣 ,  金旼夑 ,  李相润

IPC: H04N5/21 ,  H04N5/262 ,  G06T5/50 ,  G06T5/80 ,  G06T7/13

Abstract: 一种图像处理方法包括：基于输入图像的暗通道图来确定源传输图；通过将不同的滤波器应用于确定出的源传输图来确定变换后的传输图；通过分别基于确定出的变换后的传输图从输入图像中去雾来生成无雾图像；以及通过混合所生成的无雾图像来生成输出图像。

公开(公告)号：CN114070958A

公开(公告)日：2022-02-18

申请号：CN202011610102.7

申请日：2020-12-29

Applicant: 三星电子株式会社 ,  延世大学校产学协力团

Inventor： 池承勋 ,  姜文基 ,  洪淳荣 ,  金旼夑 ,  李相润

IPC: H04N5/21 ,  H04N5/262 ,  G06T5/50 ,  G06T5/00 ,  G06T7/13

Abstract: 一种图像处理方法包括：基于输入图像的暗通道图来确定源传输图；通过将不同的滤波器应用于确定出的源传输图来确定变换后的传输图；通过分别基于确定出的变换后的传输图从输入图像中去雾来生成无雾图像；以及通过混合所生成的无雾图像来生成输出图像。

公开(公告)号：CN104797661B

公开(公告)日：2018-02-27

申请号：CN201380059945.4

申请日：2013-08-09

Applicant: 三星电子株式会社 ,  赵相镐 ,  洪淳荣

Inventor： 朴炳夏 ,  朴秀袗 ,  赵相镐 ,  洪淳荣 ,  黄仁吾

IPC: C09D5/14 ,  B05D5/00 ,  B32B7/00 ,  G12B9/04

CPC classification number: C09D5/00 ,  A01N55/00 ,  A01N59/16 ,  B05D5/00 ,  B05D7/52 ,  C08K3/015 ,  C08K5/544 ,  C09D5/14 ,  C09D7/60 ,  F26B25/04 ,  F26B25/22 ,  Y10T428/265 ,  Y10T428/31663 ,  A01N25/08 ,  A01N25/24 ,  A01N25/34

Abstract: 公开了包括形成在作为涂覆目标的物品与防指纹涂层之间的抗菌层的涂覆结构和用于形成该涂覆结构的方法，该涂覆结构用于改善防指纹涂层的耐久性、可靠性和耐腐蚀性并提供抗菌性。公开了形成在物品的表面上的涂覆结构，该涂覆结构包括形成在物品的表面上的抗菌层和形成在抗菌层上的防指纹涂层。

公开(公告)号：CN104797661A

公开(公告)日：2015-07-22

申请号：CN201380059945.4

申请日：2013-08-09

Applicant: 三星电子株式会社 ,  赵相镐 ,  洪淳荣

Inventor： 朴炳夏 ,  朴秀袗 ,  赵相镐 ,  洪淳荣 ,  黄仁吾

IPC: C09D5/14 ,  B05D5/00 ,  B32B7/00 ,  G12B9/04

CPC classification number: C09D5/00 ,  A01N55/00 ,  A01N59/16 ,  B05D5/00 ,  B05D7/52 ,  C08K3/015 ,  C08K5/544 ,  C09D5/14 ,  C09D7/60 ,  F26B25/04 ,  F26B25/22 ,  Y10T428/265 ,  Y10T428/31663 ,  A01N25/08 ,  A01N25/24 ,  A01N25/34 ,  B05D5/08 ,  B05D2506/10 ,  B05D2518/10 ,  C09D7/69

Abstract: 公开了包括形成在作为涂覆目标的物品与防指纹涂层之间的抗菌层的涂覆结构和用于形成该涂覆结构的方法，该涂覆结构用于改善防指纹涂层的耐久性、可靠性和耐腐蚀性并提供抗菌性。公开了形成在物品的表面上的涂覆结构，该涂覆结构包括形成在物品的表面上的抗菌层和形成在抗菌层上的防指纹涂层。