公开(公告)号：CN1936705B

公开(公告)日：2011-12-21

申请号：CN200610144771.3

申请日：2006-08-23

Applicant: 三星电子株式会社 ,  东进瑟弥侃株式会社

Inventor： 朴廷敏 ,  李羲国 ,  尹赫敏 ,  丘翼赫 ,  金柄郁

IPC: G03F7/004 ,  G03F7/20 ,  G03F7/26 ,  H01L21/027

CPC classification number: G03F7/0382 ,  G03F7/105 ,  H01L21/32139 ,  H01L29/66765 ,  H01L29/78669 ,  Y10S430/106 ,  Y10S430/114

Abstract: 光致抗蚀剂组合物包含约10～70％重量的含有苯酚-基聚合物的粘合剂树脂、约0.5～10％重量的光-酸发生剂、约1～20％重量的交联剂、约0.1～5％重量的染料和约10～80％重量的溶剂。该光致抗蚀剂组合物可以应用于例如制备TFT基底的方法。

公开(公告)号：CN1936705A

公开(公告)日：2007-03-28

申请号：CN200610144771.3

申请日：2006-08-23

Applicant: 三星电子株式会社 ,  东进瑟弥侃株式会社

Inventor： 朴廷敏 ,  李羲国 ,  尹赫敏 ,  丘翼赫 ,  金柄郁

IPC: G03F7/004 ,  G03F7/20 ,  G03F7/26 ,  H01L21/027

CPC classification number: G03F7/0382 ,  G03F7/105 ,  H01L21/32139 ,  H01L29/66765 ,  H01L29/78669 ,  Y10S430/106 ,  Y10S430/114

Abstract: 光致抗蚀剂组合物包含约10～70％重量的含有苯酚－基聚合物的粘合剂树脂、约0.5～10％重量的光－酸发生剂、约1～20％重量的交联剂、约0.1～5％重量的染料和约10～80％重量的溶剂。该光致抗蚀剂组合物可以应用于例如制备TFT基底的方法。