热敏共聚物、其制法、驱动液、水处理设备和正渗透方法

    公开(公告)号:CN103319723A

    公开(公告)日:2013-09-25

    申请号:CN201310086994.9

    申请日:2013-03-19

    CPC classification number: C08G69/42 B01D61/002 C02F1/445 C08G73/10 Y02P20/126

    Abstract: 本发明涉及热敏共聚物、其制法、驱动液、水处理设备和正渗透方法。公开了热敏共聚物,其包括具有接枝到其上的温度敏感低聚物的第一重复单元以及具有离子部分和所述离子部分的反离子的第二重复单元,其中所述温度敏感低聚物为包括得自具有由化学式1或化学式2表示的部分的不饱和单体的重复单元的低聚物、或为包括得自具有C、N和O且在其环中具有C=N键的杂环化合物的重复单元的低聚物。在化学式1中,R2和R3各自独立地为氢或者直链或支链C1-C6烷基、C3-C7环烷基、或C6-C10芳基,R2和R3不能都为氢,且R2和R3可结合以形成含氮杂环。在化学式2中,R4为C2-C5亚烷基。[化学式1]*–C(=O)N(R2)(R3)[化学式2]

    热敏共聚物、其制法、驱动液、水处理设备和正渗透方法

    公开(公告)号:CN103319723B

    公开(公告)日:2016-12-28

    申请号:CN201310086994.9

    申请日:2013-03-19

    CPC classification number: C08G69/42 B01D61/002 C02F1/445 C08G73/10 Y02P20/126

    Abstract: 本发明涉及热敏共聚物、其制法、驱动液、水处理设备和正渗透方法。公开了热敏共聚物,其包括具有接枝到其上的温度敏感低聚物的第一重复单元以及具有离子部分和所述离子部分的反离子的第二重复单元,其中所述温度敏感低聚物为包括得自具有由化学式1或化学式2表示的部分的不饱和单体的重复单元的低聚物、或为包括得自具有C、N和O且在其环中具有C=N键的杂环化合物的重复单元的低聚物。在化学式1中,R2和R3各自独立地为氢或者直链或支链C1-C6烷基、C3-C7环烷基、或C6-C10芳基,R2和R3不能都为氢,且R2和R3可结合以形成含氮杂环。在化学式2中,R4为C2-C5亚烷基。[化学式1]*–C(=O)N(R2)(R3)[化学式2] 。(56)对比文件TADAAKI INOUE et al..Temperaturesensitivity of a hydrogel networkcontaining fifferent LCST oligomersgrafted to the hydrogel backbone《.polymergels and networks》.1998,561-575.Mathias Hahn et al..Synthesis andProperties of Ionically Modified Polymerswith LCST Behavior《.Macromolecules》.1998,5616-5623.

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