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公开(公告)号:CN101643196B
公开(公告)日:2015-04-29
申请号:CN200910004187.1
申请日:2009-02-20
Applicant: 三星电子株式会社
CPC classification number: B82Y20/00 , B82Y40/00 , C01B33/113 , H01L29/0669 , H01L29/068 , H01L29/66 , H01L33/18
Abstract: 本发明公开了纳米线、纳米线的生产方法及电子装置。所述纳米线包含富硅氧化物。所述纳米线表现出优良的导电性质和光学特性,因此所述纳米线有效地应用在包括例如太阳能电池、传感器、光电探测器、发光二极管、激光二极管、EL装置、PL装置、CL装置、FET、CTF、表面等离子波导、MOS电容器等的各种应用中。
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公开(公告)号:CN101643196A
公开(公告)日:2010-02-10
申请号:CN200910004187.1
申请日:2009-02-20
Applicant: 三星电子株式会社
CPC classification number: B82Y20/00 , B82Y40/00 , C01B33/113 , H01L29/0669 , H01L29/068 , H01L29/66 , H01L33/18
Abstract: 这里公开了纳米线、纳米线的生产方法及电子装置。所述纳米线包含富硅氧化物。所述纳米线表现出优良的导电性质和光学特性,因此所述纳米线有效地应用在包括例如太阳能电池、传感器、光电探测器、发光二极管、激光二极管、EL装置、PL装置、CL装置、FET、CTF、表面等离子波导、MOS电容器等的各种应用中。
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