公开(公告)号：CN105097404B

公开(公告)日：2018-04-17

申请号：CN201510230610.5

申请日：2015-05-08

Applicant: 三星电子株式会社

Inventor： 金茂珍 ,  金俸奭 ,  具德滋 ,  禹济宪 ,  李彦柱

IPC: H01J37/32

CPC classification number: H01J37/32715 ,  H01J37/32082 ,  H01J37/32449 ,  H01J37/32706

Abstract: 本发明提供了一种等离子体设备，该等离子体设备包括：处理室，其具有内空间；吸盘，其设置在处理室中，并具有其上装载衬底的顶表面；气体供应单元，其将处理气体供应至处理室中；等离子体产生单元，其在吸盘上方产生等离子体；以及直流功率发生器，其将直流脉冲信号施加至吸盘。直流脉冲信号的周期可包括：在其中施加负脉冲的负脉冲持续时间；在其中施加正脉冲的正脉冲持续时间；以及其中负脉冲和正脉冲均截止的无脉冲持续时间。正脉冲持续时间在负脉冲持续时间与无脉冲持续时间之间。无脉冲持续时间可包括其幅值低于正脉冲的电压的幅值的电压，诸如地电压。

公开(公告)号：CN105097404A

公开(公告)日：2015-11-25

申请号：CN201510230610.5

申请日：2015-05-08

Applicant: 三星电子株式会社

Inventor： 金茂珍 ,  金俸奭 ,  具德滋 ,  禹济宪 ,  李彦柱

IPC: H01J37/32

CPC classification number: H01J37/32715 ,  H01J37/32082 ,  H01J37/32449 ,  H01J37/32706

Abstract: 本发明提供了一种等离子体设备，该等离子体设备包括：处理室，其具有内空间；吸盘，其设置在处理室中，并具有其上装载衬底的顶表面；气体供应单元，其将处理气体供应至处理室中；等离子体产生单元，其在吸盘上方产生等离子体；以及直流功率发生器，其将直流脉冲信号施加至吸盘。直流脉冲信号的周期可包括：在其中施加负脉冲的负脉冲持续时间；在其中施加正脉冲的正脉冲持续时间；以及其中负脉冲和正脉冲均截止的无脉冲持续时间。正脉冲持续时间在负脉冲持续时间与无脉冲持续时间之间。无脉冲持续时间可包括其幅值低于正脉冲的电压的幅值的电压，诸如地电压。