半导体器件和包括该半导体器件的电子装置

    公开(公告)号:CN115799325A

    公开(公告)日:2023-03-14

    申请号:CN202211039284.6

    申请日:2022-08-29

    Abstract: 一种半导体器件和包括该半导体器件的电子装置,该半导体器件包括:第一源极/漏极结构,包括第一半导体区域和与第一半导体区域电接触的第一电极;第二源极/漏极结构,包括第二半导体区域和与第二半导体区域电接触的第二电极;在第一半导体区域和第二半导体区域之间的沟道;以及栅极结构,包括覆盖沟道的栅极绝缘膜和覆盖栅极绝缘膜的栅电极。第一源极/漏极结构进一步包括在第一半导体区域和第一电极之间的硅化物膜以及在硅化物膜和第一电极之间的导电阻挡物。导电阻挡物包括导电的二维材料。

    半导体器件及其制造方法
    8.
    发明公开

    公开(公告)号:CN119815870A

    公开(公告)日:2025-04-11

    申请号:CN202411407337.4

    申请日:2024-10-10

    Abstract: 本公开涉及半导体器件及其制造方法。该半导体器件包括:第一沟道层和第二沟道层,在第一方向上彼此间隔开并且每个包括二维(2D)半导体材料;第一源电极,在第一沟道层和第二沟道层之间以同时与第一沟道层和第二沟道层接触;第一漏电极,在第一沟道层和第二沟道层之间以在垂直于第一方向的第二方向上与第一源电极间隔开并且同时与第一沟道层和第二沟道层接触;第一栅电极,布置在由第一源电极、第一漏电极、第一沟道层和第二沟道层围绕的第一内部空间中;以及第一栅极绝缘层,在第一内部空间中围绕第一栅电极。

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