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公开(公告)号:CN1213782A
公开(公告)日:1999-04-14
申请号:CN98120207.1
申请日:1998-09-30
Applicant: 三星电子株式会社
IPC: G02B6/10
CPC classification number: H01J37/321 , G02B6/136 , G02B2006/12173
Abstract: 一种制造光波导装置的方法,包括如下步骤:在基片上依次形成下覆层和芯层;在芯层上形成露出芯层的掩膜图案;基片承载于感应耦合等离子体系统的阴电极之上,该系统包括阴电极,与阴电极相对一预定间距的电极和位于上电极和阴电极之间的感应耦合等离子体线圈;由向该系统供入的反应气中产生等离子体,以通过掩膜图案将芯层制出图案形成一光波导;形成覆盖光波导的上覆层。