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公开(公告)号:CN115598939A
公开(公告)日:2023-01-13
申请号:CN202210793674.6
申请日:2022-07-07
Applicant: 三星SDI株式会社(KR) , 三星电子株式会社(KR)
Abstract: 本发明提供了一种含金属的光致抗蚀剂显影剂组合物,以及包括使用其进行显影步骤的形成图案的方法。该含金属的光致抗蚀剂显影剂组合物包含有机溶剂和被至少一个羟基(‑OH)取代的七角环化合物,其中七角环化合物在环中具有至少两个双键。
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公开(公告)号:CN119823306A
公开(公告)日:2025-04-15
申请号:CN202411412848.5
申请日:2024-10-11
Applicant: 三星电子株式会社
IPC: C08F212/14 , C08F220/30 , C08F212/12 , C08F220/22 , G03F7/004
Abstract: 提供聚合物、包括其的抗蚀剂组合物及使用其形成图案的方法,所述聚合物包括由下面的式1表示的第一重复单元和由下面的式2表示的第二重复单元的。在式1和2中,L11至L13、L21至L24、a11至a13、a21至a24、A11、A21、X11、R11、R12、R21至R23、b12、b22、b23、p11、和p21如说明书中所描述的。#imgabs0#
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公开(公告)号:CN115598942A
公开(公告)日:2023-01-13
申请号:CN202210794402.8
申请日:2022-07-07
Applicant: 三星SDI株式会社(KR) , 三星电子株式会社(KR)
IPC: G03F7/42
Abstract: 本发明提供了一种从含金属的抗蚀剂去除边缘珠的组合物,及包括使用组合物去除边缘珠的步骤的形成图案的方法。该从含金属的抗蚀剂去除边缘珠的组合物包含有机溶剂、以及被至少一个羟基(‑OH)取代的七角环化合物,其中该七角环化合物在该环中具有至少两个双键。
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